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1. (WO2007149813) SYSTÈME DE DÉTECTION ÉLECTROCHIMIQUE ET D'ANALYSE DE DONNÉES, APPAREIL ET PROCÉDÉ DE GALVANOPLASTIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/149813    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/071462
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 18.06.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.03.2008    
CIB :
A01N 43/22 (2006.01)
Déposants : ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. [US/US]; 7 Commerce Drive, Danbury, CT 06810-4169 (US) (Tous Sauf US).
HAN, Jianwen [CA/US]; (US) (US Seulement).
HILGARTH, Monica, K. [US/US]; (US) (US Seulement).
KING, Mackenzie [CA/US]; (US) (US Seulement).
LURCOTT, Steven, M. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HAN, Jianwen; (US).
HILGARTH, Monica, K.; (US).
KING, Mackenzie; (US).
LURCOTT, Steven, M.; (US)
Mandataire : HULTQUIST, Steven, J.; Intellectual Property/Technology Law, P.O. Box 14329, Research Triangle Park, NC 27709 (US)
Données relatives à la priorité :
60/815,206 20.06.2006 US
Titre (EN) ELECTROCHEMICAL SENSING AND DATA ANALYSIS SYSTEM, APPARATUS AND METHOD FOR METAL PLATING
(FR) SYSTÈME DE DÉTECTION ÉLECTROCHIMIQUE ET D'ANALYSE DE DONNÉES, APPAREIL ET PROCÉDÉ DE GALVANOPLASTIE
Abrégé : front page image
(EN)An electrochemical sensing and data analysis system (and apparatus and methods) adapted for control of electroplating of various metal(s) on a wafer or other suitable substrate. Components of the system utilize multi-variate analysis (MVA) and galvanostatic, potentiodynamic or other electrical measurements (or combinations thereof) to predict, adjust or control plating parameters, e.g., to achieve improved yield of plated substrates with acceptable levels of defects (or lack thereof).
(FR)La présente invention concerne un système de détection électrochimique et d'analyse de données (un appareil et les procédés correspondants) conçu pour commander la galvanoplastie de divers métaux sur une tranche ou sur tout autre substrat approprié. Des constituants du système utilisent l'analyse à plusieurs variables et des mesures galvanoplastiques, potentiodynamiques ou d'autres mesures électriques (ou des combinaisons de ces dernières) pour prédire, ajuster ou commander les paramètres de galvanoplastie, par exemple, pour assurer un meilleur rendement de substrats recouverts présentant des niveaux acceptables de défauts (ou même aucun défaut).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)