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1. (WO2007148931) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT EN CÉRAMIQUE POUR VAPORISATION THERMIQUE SUR LES PARTIES DE COMPOSANTS DE TRAITEMENT À SEMICONDUCTEUR, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET D'ENDUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/148931    N° de la demande internationale :    PCT/KR2007/003017
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 21.06.2007
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : Korea Institute of Science and Technology [KR/KR]; 39-1, Hawolgok-dong, Seongbuk-gu, Seoul, 136-791 (KR) (Tous Sauf US).
SEOK, Hyun-Kwang [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Hae-Won [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
BAIK, Kyeong-Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : SEOK, Hyun-Kwang; (KR).
LEE, Hae-Won; (KR).
BAIK, Kyeong-Ho; (KR)
Mandataire : YOU ME PATENT & LAW FIRM; Seolim bldg., 649-10, Yoksam-dong, Kangnam-ku, Seoul, 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2006-0055968 21.06.2006 KR
10-2007-0060758 20.06.2007 KR
Titre (EN) CERAMIC COATING MATERIAL FOR THERMAL SPRAY ON THE PARTS OF SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICES AND FABRICATION METHOD AND COATING METHOD THEREOF
(FR) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT EN CÉRAMIQUE POUR VAPORISATION THERMIQUE SUR LES PARTIES DE COMPOSANTS DE TRAITEMENT À SEMICONDUCTEUR, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET D'ENDUCTION
Abrégé : front page image
(EN)A thermal spray coating material for use in semiconductor equipment, its preparation method, and a coating method thereof are disclosed. The coating material may have a composition of (A1xY1-x)2O3 (x is within a range of 0.05 to 0.95), and be formed as a powder with a diameter of l&mgr;m~100&mgr;m. A coating film that is coated by using the powder according to the thermal spray method has an amorphous structure.
(FR)L'invention concerne un matériau de revêtement par vaporisation thermique destiné à être utilisé dans un équipement à semiconducteurs, son procédé de préparation et un procédé d'enduction de celui-ci. Le matériau de revêtement peut présenter une composition de (AlxY1-x)2O3 (où x se trouve dans la plage de 0,05 à 0,95) et être formé comme une poudre de diamètre de l &mgr;m à 100 &mgr;m. Un film de revêtement qui est déposé en utilisant la poudre conformément au procédé de vaporisation thermique présente une structure amorphe.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)