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1. (WO2007148689) SUBSTRAT POURVU D'UNE CLOISON ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/148689    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/062321
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 19.06.2007
CIB :
G02B 5/20 (2006.01)
Déposants : TOPPAN PRINTING CO. , LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome Taito-ku Tokyo 1108560 (JP) (Tous Sauf US).
KAMINAGA, Junichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIURA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IKEDA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUBO, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AOKI, Eishi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAMINAGA, Junichi; (JP).
MIURA, Hiroyuki; (JP).
IKEDA, Takeshi; (JP).
KUBO, Yuji; (JP).
AOKI, Eishi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-170047 20.06.2006 JP
Titre (EN) SUBSTRATE WITH PARTITION PATTERN AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) SUBSTRAT POURVU D'UNE CLOISON ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 隔壁パターン付き基板およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A substrate which has a partition pattern and on which a colored layer free from color mixing or blind-spot failures and having flatness and evenness of the pixels can be formed; and a process for producing the substrate. The substrate having a partition pattern comprises a base and a partition pattern formed in a given position on the base and made of a material comprising a fluorine compound. When the upper surface of the partition is examined by anion analysis with a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS), the proportion of the detected intensity of F-fragment ions (M/Z=19) to the detected intensity of all anions is 25-60%.
(FR)La présente invention concerne un substrat qui possède une cloison, sur lequel on peut former une couche colorée qui ne présente pas d'erreurs de mélange de couleurs ou de tache d'ombre, et qui possède des pixels plans et réguliers. La présente invention porte aussi sur un procédé permettant de produire le substrat. Le substrat pourvu d'une cloison comprend une base et une cloison formée sur la base, suivant une position donnée, et se compose d'un matériau contenant un composé fluor. Lorsque la surface supérieure de la cloison est examinée par analyse anionique avec un spectromètre de masse d'ions secondaires à temps de vol (TOF-SIMS), le rapport de l'intensité détectée d'ions fragments F (M/Z=19) sur l'intensité détectée de tous les anions est compris entre 25 et 60 %.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)