WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007148470) APPAREIL DE TRAITEMENT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT ET SOURCE DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/148470    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/058593
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 20.04.2007
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), B01J 19/08 (2006.01), B08B 3/02 (2006.01), B08B 5/00 (2006.01), B08B 7/00 (2006.01), G03F 7/42 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Déposants : RIVER BELL CO. [JP/JP]; Seto bldg. 4F, 7-3, Taito 2-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP) (Tous Sauf US).
TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 12-1, Ookayama 2-chome, Meguro-ku, Tokyo 1528550 (JP) (Tous Sauf US).
KANEGAE, Masatomo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKINO, Akitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAHARA, Hidekazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KANEGAE, Masatomo; (JP).
OKINO, Akitoshi; (JP).
MIYAHARA, Hidekazu; (JP)
Mandataire : NAKAO, Shunsuke; c/o Nakao & Ito Patent Office 3-5, Uchikanda 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-0047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-172388 22.06.2006 JP
2006-196931 19.07.2006 JP
Titre (EN) TREATING APPARATUS, METHOD OF TREATING AND PLASMA SOURCE
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT ET SOURCE DE PLASMA
(JA) 処理装置、処理方法及びプラズマ源
Abrégé : front page image
(EN)A treating apparatus, and method of treating, being capable of shortening the lead time and being more reliable in treating performance than in the prior art. There is provided an apparatus comprising chamber (1); holding means (3) for holding of treatment object (2), disposed in the chamber; active atom feeding means (4) for feeding of active atoms into the chamber; and chemical solution feeding means (5) for feeding of a solution of chemical into the chamber so as to carry out not only dry treatment by the active atoms fed by the active atom feeding means but also wet treatment by the solution of chemical fed by the chemical solution feeding means on the surface of the treatment object.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement et un procédé de traitement, capables de raccourcir le temps de mise en route et dont la performance de traitement est plus que l'état antérieur de la technique. Il est proposé un appareil comprenant une chambre (1) ; des moyens de maintien (3) de l'objet de traitement (2) disposés dans la chambre ; des moyens d'alimentation en atome actif (4) alimentant la chambre en atomes actifs ; et des moyens d'alimentation en solution de substances chimiques (5) amenant une solution de substances chimiques dans la chambre afin de réaliser non seulement un traitement à sec par les atomes actifs amenés par les moyens d'alimentation en atomes actifs mais aussi un traitement humide à partir de la solution de substances chimiques amenée par les moyens d'alimentation en solution de substances chimiques sur la surface de l'objet à traiter.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)