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Paramétrages

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1. WO2007148396 - SOURCE D'ÉVAPORATION PAR ARC ET SYSTÈME D'ÉVAPORATION SOUS VIDE

Numéro de publication WO/2007/148396
Date de publication 27.12.2007
N° de la demande internationale PCT/JP2006/312489
Date du dépôt international 22.06.2006
CIB
C23C 14/24 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
24Evaporation sous vide
CPC
C23C 14/243
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
243Crucibles for source material
C23C 14/325
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
32by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours ; , e.g. ion-plating
325Electric arc evaporation
Déposants
  • 新明和工業株式会社 SHINMAYWA INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 〒6658550 兵庫県宝塚市新明和町1番1号 Hyogo 1-1, Shinmeiwa-cho, Takarazuka-shi, Hyogo 6658550, JP (AllExceptUS)
  • 小泉 康浩 KOIZUMI, Yasuhiro; null (UsOnly)
  • 能勢 功一 NOSE, Kouichi; null (UsOnly)
Inventeurs
  • 小泉 康浩 KOIZUMI, Yasuhiro; null
  • 能勢 功一 NOSE, Kouichi; null
Mandataires
  • 角田 嘉宏 SUMIDA, Yoshihiro; 〒6500031 兵庫県神戸市中央区東町123番地の1 貿易ビル3階 有古特許事務所 Hyogo ARCO PATENT OFFICE, 3rd Fl., Bo-eki Bldg., 123-1, Higashimachi, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500031, JP
Données relatives à la priorité
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) ARC EVAPORATION SOURCE AND VACUUM EVAPORATION SYSTEM
(FR) SOURCE D'ÉVAPORATION PAR ARC ET SYSTÈME D'ÉVAPORATION SOUS VIDE
(JA) アーク蒸発源および真空蒸着装置
Abrégé
(EN)
An arc evaporation source and a vacuum evaporation system in which evaporation substances emitted from the cathode of vacuum arc discharge can be collected appropriately. The arc evaporation source (100) comprises first and second electrodes (14A, 14B) opposing each other through a gap (G), wherein at least any one of the first and second electrodes (14A, 14B) serves as a cathode and the other electrode of the first and second electrodes (14A, 14B) can collect evaporation substances emitted from the cathode based on vacuum arc discharge generated between the cathode and the anode.
(FR)
L'invention concerne une source d'évaporation par arc et un système d'évaporation sous vide dans lequel des substances d'évaporation émises par la cathode de décharge en arc sous vide peuvent être recueillies de façon appropriée. La source d'évaporation par arc (100) comporte une première et une seconde électrode (14A, 14B) montées l'une en face de l'autre dans un espace (G) ; au moins la première ou la seconde électrode (14A, 14B) sert de cathode et l'autre peut recueillir des substances d'évaporation émises par la cathode selon la décharge en arc sous vide générée entre la cathode et l'anode.
(JA)
 真空アーク放電のカソードから放出された蒸発物質を適正に回収することを可能にしたアーク蒸発源および真空蒸着装置を提供する。アーク蒸発源(100)は、間隙(G)を隔てて互いに対向する第1および第2の電極(14A、14B)を備え、第1および第2の電極(14A、14B)のうちの少なくとも何れか一方の電極をカソードとして、カソードとアノードとの間に発生する真空アーク放電に基づいて、第1および第2の電極(14A、14B)のうちの他方の電極が、カソードから放出された蒸発物質を回収可能に構成されている。
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