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1. (WO2007148285) RÉGULATION D'ÉCOULEMENT CAPILLAIRE DANS UN CANAL D'ÉCOULEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/148285    N° de la demande internationale :    PCT/IB2007/052347
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 19.06.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    16.01.2008    
CIB :
C12Q 1/00 (2006.01), G01N 27/30 (2006.01), G01N 33/487 (2006.01)
Déposants : NOVA BIOMEDICAL CORPORATION [US/US]; 200 Prospect Street, Waltham, Massachusetts 02454-9141 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : WINARTA, Handani; (US).
YOUNG, Chung Chang; (US).
VO, Andy; (US).
CHUANG, Yu-Tao; (TW).
CHANG, Yu-Feng; (TW)
Mandataire : DELEAULT, Robert; Mesmer & Deleault, PLLC, 41 Brook Street, Manchester, NH 03104 (US)
Données relatives à la priorité :
11/425,001 19.06.2006 US
Titre (EN) CAPILLARY FLOW CONTROL IN A FLOW CHANNEL
(FR) RÉGULATION D'ÉCOULEMENT CAPILLAIRE DANS UN CANAL D'ÉCOULEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A sensor strip (10) with capillary flow control has a base layer (20) having a plurality of conductive paths (22, 24, 26, 28) delineated thereon, an electrode forming layer (30) disposed on the base layer, the electrode forming layer having a first opening (32) forming a working electrode, a second opening (34) forming a reference electrode, and a flow-control mechanism (39), a spacer layer (40) disposed on the electrode forming layer, and a cover layer (50) with a vent opening (52) disposed on the spacer layer and forming a substantially flat sample channel (17) with walls formed by the electrode forming layer, the spacer layer and the cover layer, the substantially flat sample chamber having a sample inlet (18) adjacent a proximal end and the vent opening adjacent a distal end where the substantially flat sample chamber contains the working electrode, the reference electrode and the flow-control mechanism.
(FR)Selon l'invention, une bande de détection (10) avec régulation d'écoulement capillaire comporte une couche de base (20) sur laquelle sont démarqués une pluralité de chemins conducteurs (22, 24, 26,28), une couche de formation d'électrodes (30) disposée sur la couche de base, la couche de formation d'électrodes comportant une première ouverture (32) constituant une électrode de travail, une seconde ouverture (34) constituant une électrode de référence, et un mécanisme de régulation d'écoulement (39), une couche d'entretoise (40) disposée sur la couche de formation d'électrodes, et une couche de couverture (50) munie d'une ouverture de ventilation (52) disposée sur la couche d'entretoise et constituant un canal d'échantillonnage (17) sensiblement plat dont les parois sont constituées de la couche de formation d'électrodes, de la couche d'entretoise et de la couche de couverture, la chambre d'échantillonnage sensiblement plate comportant un orifice d'admission d'échantillon (18) adjacent à une extrémité proximale, et l'ouverture de ventilation adjacente à une extrémité distale, la chambre d'échantillonnage sensiblement plate contenant l'électrode de travail, l'électrode de référence et le mécanisme de régulation d'écoulement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)