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1. (WO2007147671) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MICRO-AIGUILLES POREUSES ET LEUR UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/147671    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/054175
Date de publication : 27.12.2007 Date de dépôt international : 27.04.2007
CIB :
B81C 1/00 (2006.01), A61M 37/00 (2006.01)
Déposants : ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20, 70442 Stuttgart (DE) (Tous Sauf US).
LAERMER, Franz [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
STUMBER, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FEYH, Ando [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHOLTEN, Dick [NL/DE]; (DE) (US Seulement).
MAEURER, Christian [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
CASSEMEYER, Julia [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : LAERMER, Franz; (DE).
STUMBER, Michael; (DE).
FEYH, Ando; (DE).
SCHOLTEN, Dick; (DE).
MAEURER, Christian; (DE).
CASSEMEYER, Julia; (DE)
Représentant
commun :
ROBERT BOSCH GMBH; Postfach 30 02 20, 70442 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
102006028781.9 23.06.2006 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON PORÖSEN MIKRONADELN UND IHRE VERWENDUNG
(EN) METHOD FOR PRODUCING POROUS MICRO-NEEDLES AND USE THEREOF
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MICRO-AIGUILLES POREUSES ET LEUR UTILISATION
Abrégé : front page image
(DE)Es wird ein Verfahren zur Herstellung von porösen, auf einem Siliziumsubstrat (5) in einem Array angeordneten Mikronadeln (10) zur transdermalen Verabreichung von Medikamenten und ihre Verwendung vorgestellt. Das Verfahren umfasst: Bereitstellen eines Siliziumsubstrates (5), Aufbringen einer ersten Ätzmaske, Strukturieren von Mikronadeln (10) mittels eines DRIE-Prozesses (,,deep reactive ion etching'), Entfernen der ersten Ätzmaske, zumindest teilweises Porosifizieren des Si-Substrates (5), wobei die Porosifizierung auf der Vorderseite (15) des Si-Substrates (5) beginnt und poröses Reservoir gebildet wird.
(EN)The invention relates to a method for producing porous micro-needles (10) that are arranged on a silicon substrate (5) in an array, for the transdermal administration of medicaments and to the use of said micro-needles. Said method consists of the following steps, a silicon substrate (5) is prepared, a first etching mask is applied, micro-needles (10) are structured by means of a DRIE-process (deep reactive ion etching), the first etching mask is removed and the Si-substrate (5) is at least partially made porous. The porous making process starts on the front side (15) of the Si-substrate (5) and a porous reservoir is formed.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de produire des micro-aiguilles (10) poreuses disposées en un réseau sur un substrat silicium (5), qui servent à administrer des médicaments par voie transdermique, ainsi que l'utilisation desdites micro-aiguilles. Ledit procédé comprend les étapes suivantes: préparer un substrat silicium (5); appliquer un premier masque de gravure; structurer des micro-aiguilles (10) à l'aide d'un procédé de gravure ionique réactive profonde (DRIE); éliminer le premier masque de gravure; porosifier au moins en partie le substrat Si (5). La porosification débute sur la face avant (15) du substrat Si et un réservoir poreux est formé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)