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1. (WO2007146277) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR EXPOSER DES SUBSTRATS ÉLECTRONIQUES À UNE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/146277    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/013763
Date de publication : 21.12.2007 Date de dépôt international : 11.06.2007
CIB :
A61N 5/00 (2006.01)
Déposants : ORC IMAGING CORPORATION [US/US]; 827 Lawson Street, City Of Industry, CA 91748 (US) (Tous Sauf US).
JACOBO, Victor, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
SINGH, Raja, D. [IN/US]; (US) (US Seulement).
SOUKASIAN, Andre [US/US]; (US) (US Seulement).
JACOBSEN, David, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
FABELA, Frank [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : JACOBO, Victor, M.; (US).
SINGH, Raja, D.; (US).
SOUKASIAN, Andre; (US).
JACOBSEN, David, A.; (US).
FABELA, Frank; (US)
Mandataire : JEON, Jun-Young, E.; Christie, Parker & Hale, LLP, P.O. Box 7068, Pasadena, CA 91109-7068 (US)
Données relatives à la priorité :
11/451,983 12.06.2006 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR EXPOSING ELECTRONIC SUBSTRATES TO UV LIGHT
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR EXPOSER DES SUBSTRATS ÉLECTRONIQUES À UNE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE
Abrégé : front page image
(EN)A flash lamp exposure system for exposing a substrate to ultraviolet radiation. The system includes at least one flash lamp, each of which includes: at least one lamp for emitting ultraviolet radiation in response to a voltage; at least one first reflector, each first reflector being adapted to reflect the ultraviolet radiation toward the substrate; a second reflector surrounding a path of the ultraviolet radiation from the at least one lamp to the substrate, the second reflector being adapted to reflect first rays of the ultraviolet radiation toward the substrate; and a third reflector disposed closer to the substrate than the secondary reflector and surrounding the path of the ultraviolet radiation from the at least one lamp to the substrate, the third reflector being adapted to reflect second rays of the ultraviolet radiation toward the substrate.
(FR)L'invention concerne un système d'exposition à une lampe flash pour exposer un substrat à un rayonnement ultraviolet. Le système inclut au moins une lampe flash, dont chacune inclut : au moins une lampe pour émettre un rayonnement ultraviolet en réponse à une tension ; au moins un premier réflecteur, chaque premier réflecteur étant adapté pour réfléchir le rayonnement ultraviolet vers le substrat ; un second réflecteur entourant un trajet du rayonnement ultraviolet depuis ladite ou lesdites lampes jusqu'au substrat, le second réflecteur étant adapté pour réfléchir les premiers rayons du rayonnement ultraviolet vers le substrat ; et un troisième réflecteur disposé plus près du substrat que le second réflecteur et entourant le trajet du rayonnement ultraviolet depuis ladite ou lesdites lampes jusqu'au substrat, le troisième réflecteur étant adapté pour réfléchir les seconds rayons du rayonnement ultraviolet vers le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)