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1. (WO2007145657) DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ASSISTÉ DE POLYMÈRES VINYLIQUES POUR ENCAPSULATION DE PARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/145657    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/042169
Date de publication : 21.12.2007 Date de dépôt international : 30.10.2006
CIB :
B01J 13/04 (2006.01), B01J 13/14 (2006.01)
Déposants : MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue, Cambridge, MA 02139-4307 (US) (Tous Sauf US).
GLEASON, Karen, K. [US/US]; (US) (US Seulement).
LAU, Kenneth, K.S. [--/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GLEASON, Karen, K.; (US).
LAU, Kenneth, K.S.; (US)
Mandataire : GORDON, Dana, M.; Foley Hoag LLP, Patent Group, 155 Seaport Boulevard, Boston, MA 02210-2698 (US)
Données relatives à la priorité :
60/732,371 01.11.2005 US
Titre (EN) INITIATED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF VINYL POLYMERS FOR THE ENCAPSULATION OF PARTICLES
(FR) DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ASSISTÉ DE POLYMÈRES VINYLIQUES POUR ENCAPSULATION DE PARTICULES
Abrégé : front page image
(EN)One aspect of the present invention relates to an all-dry encapsulation method that enables well-defined polymers to be applied around particles of sizes down to the nanoscale. In certain embodiments, the methods are modified forms of initiated chemical vapor deposition (iCVD) using a thermally-initiated radical polymerization to create conformal coatings around individual particles while avoiding agglomeration. The present invention also enables the coating of particle surfaces with a range of functional groups via direct incorporation of the functionality into the monomers used or indirectly through a subsequent modification of the surface of a coated particle. In certain embodiments, the method produces high quality functional polymer coatings.
(FR)L'un des aspects de la présente invention concerne une méthode d'encapsulation sèche qui permet l'application de polymères bien définis autour de particules de taille pouvant atteindre le nanomètre. Dans certains modes d'application, les méthodes sont des formes modifiées du dépôt chimique en phase vapeur assisté (iCVD) utilisant une polymérisation radicalaire thermo-initiée pour former des revêtements conformes autour de particules individuelles tout en évitant leur agglomération. La présente invention permet également le revêtement de surface de particules à l'aide d'une gamme de groupements fonctionnels par incorporation directe de la fonctionnalité dans les monomères employés, ou indirecte par modification subséquente de la surface d'une particule enrobée. Dans certains modes d'application, la méthode permet d'obtenir des revêtements polymères fonctionnels de haute qualité.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)