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1. WO2007145263 - DISPOSITIF OPTIQUE DIFFRACTIF, SYSTÈME OPTIQUE UTILISANT LE DISPOSITIF OPTIQUE DIFFRACTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF OPTIQUE DIFFRACTIF

Numéro de publication WO/2007/145263
Date de publication 21.12.2007
N° de la demande internationale PCT/JP2007/061950
Date du dépôt international 07.06.2007
CIB
G02B 5/18 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
18Grilles de diffraction
B29D 11/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
DFABRICATION D'OBJETS PARTICULIERS, À PARTIR DE MATIÈRES PLASTIQUES OU DE SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE
11Fabrication d'éléments optiques, p.ex. lentilles ou prismes
G02B 13/18 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
13Objectifs optiques spécialement conçus pour les emplois spécifiés ci-dessous
18avec des lentilles ayant une ou plusieurs surfaces non sphériques, p.ex. pour réduire l'aberration géométrique
CPC
B29D 11/0073
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
11Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
0073Optical laminates
B29D 11/00769
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
11Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
0074Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
00769Producing diffraction gratings
G02B 13/18
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
13Optical objectives specially designed for the purposes specified below
18with lenses having one or more non-spherical faces, e.g. for reducing geometrical aberration
G02B 27/0037
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
0025for optical correction, e.g. distorsion, aberration
0037with diffracting elements
G02B 27/4211
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4205having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
4211correcting chromatic aberrations
G02B 27/4216
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4205having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
4216correcting geometrical aberrations
Déposants
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
  • 早川聡 HAYAKAWA, Satoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 早川聡 HAYAKAWA, Satoshi; JP
Mandataires
  • 大西正悟 OHNISHI, Shogo; 〒1700013 東京都豊島区東池袋3-20-3, 東池袋SSビル1階大西国際特許事務所 Tokyo S.OHNISHI & ASSOCIATES HIGASHI-IKEBUKURO SS BUILDING 1F 3-20-3 Higashi-Ikebukuro Toshima-ku, Tokyo 1700013, JP
Données relatives à la priorité
2006-16733316.06.2006JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) DIFFRACTIVE OPTICAL DEVICE, OPTICAL SYSTEM USING THE DIFFRACTIVE OPTICAL DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DIFFRACTIVE OPTICAL DEVICE
(FR) DISPOSITIF OPTIQUE DIFFRACTIF, SYSTÈME OPTIQUE UTILISANT LE DISPOSITIF OPTIQUE DIFFRACTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF OPTIQUE DIFFRACTIF
(JA) 回折光学素子及びこれを用いた光学系、回折光学素子の製造方法
Abrégé
(EN)
A diffractive optical device (1) is composed of resins of different materials. A second diffractive device element (20) has a laminated structure bonded between a first diffractive device element (10) and a third diffractive device element (30). A first diffractive optical surface (6) is formed by adhering each other a diffraction grating groove (2), which is formed on the first diffractive device element (10), and a diffraction grating groove (3), which is formed on the second diffractive device element (20), on a bonding surface of the first diffractive device element (10) and the second diffractive device element (20). A second diffractive optical surface (7) is formed by adhering each other a diffraction grating groove (4), which is formed on the second diffractive device element (20), and a diffraction grating groove (5), which is formed on the third diffractive device element (30), on a bonding surface between the second diffractive device element (20) and the third diffractive device element (30). Both the non-bonded surface of the first diffractive device element (10) and that of the third diffractive device element (30) are composed of flat surfaces.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif optique diffractif (1) composé de résines de différents matériaux. Un deuxième élément de dispositif diffractif (20) comporte une structure stratifiée liée entre un premier élément de dispositif diffractif (10) et un troisième élément de dispositif diffractif (30). Une première surface optique diffractive (6) est formée en faisant adhérer un sillon de réseau de diffraction (2), qui est formé sur le premier élément de dispositif diffractif (10), et un sillon de réseau de diffraction (3), qui est formé sur le deuxième élément de dispositif diffractif (20), sur une surface de liaison du premier élément de dispositif diffractif (10) et du deuxième élément de dispositif diffractif (20). Une seconde surface optique diffractive (7) est formée en faisant adhérer un sillon de réseau de diffraction (4), qui est formé sur le deuxième élément de dispositif diffractif (20), et un sillon de réseau de diffraction (5), qui est formé sur le troisième élément de dispositif diffractif (30), sur une surface de liaison entre le deuxième élément de dispositif diffractif (20) et le troisième élément de dispositif diffractif (30). Tant la surface non liée du premier élément de dispositif diffractif (10) que celle du troisième élément de dispositif diffractif (30) sont constituées de surfaces planes.
(JA)
not available
Également publié en tant que
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