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Paramétrages

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1. WO2007145255 - DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Numéro de publication WO/2007/145255
Date de publication 21.12.2007
N° de la demande internationale PCT/JP2007/061924
Date du dépôt international 13.06.2007
CIB
H05B 33/10 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
BCHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33Sources lumineuses électroluminescentes
10Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources lumineuses électroluminescentes
H01L 51/50 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
CPC
C23C 14/12
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
12Organic material
C23C 14/28
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
28by wave energy or particle radiation
H01L 51/001
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
0001Processes specially adapted for the manufacture or treatment of devices or of parts thereof
0002Deposition of organic semiconductor materials on a substrate
0008using physical deposition, e.g. sublimation, sputtering
001Vacuum deposition
H01L 51/56
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
50specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED]
56Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices or of parts thereof
Déposants
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 〒1078481 東京都港区赤坂五丁目3番6号 Tokyo 3-6, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1078481, JP (AllExceptUS)
  • 国立大学法人東北大学 National University Corporation Tohoku University [JP/JP]; 〒9808577 宮城県仙台市青葉区片平二丁目1番1号 Miyagi 1-1, Katahira 2-Chome, Aoba-Ku, Sendai-Shi, Miyagi 9808577, JP (AllExceptUS)
  • 八木 靖司 YAGI, Yasushi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 渡辺 伸吾 WATANABE, Shingo [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 野沢 俊久 NOZAWA, Toshihisa [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 河村 忠一 KAWAMURA, Chuichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 吉野 公彦 YOSHINO, Kimihiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 大見 忠弘 OHMI, Tadahiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 八木 靖司 YAGI, Yasushi; JP
  • 渡辺 伸吾 WATANABE, Shingo; JP
  • 野沢 俊久 NOZAWA, Toshihisa; JP
  • 河村 忠一 KAWAMURA, Chuichi; JP
  • 吉野 公彦 YOSHINO, Kimihiko; JP
  • 大見 忠弘 OHMI, Tadahiro; JP
Mandataires
  • 伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko; 〒1506032 東京都渋谷区恵比寿4丁目20番3号 恵比寿ガーデンプレイスタワー32階 Tokyo 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower 20-3, Ebisu 4-Chome Shibuya-Ku, Tokyo 1506032, JP
Données relatives à la priorité
2006-16496514.06.2006JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) LIGHT-EMITTING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT-EMITTING DEVICE
(FR) DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 発光素子および発光素子の製造方法
Abrégé
(EN)
Disclosed is an apparatus for manufacturing a light-emitting device which is characterized by comprising a plurality of processing chambers for performing a substrate processing for forming a light-emitting device having a plurality of layers including an organic layer on a subject to be processed. The apparatus is also characterized in that each processing chamber is structured so that the processing of the substrate is performed while having a device mounting surface of the substrate, on which a light-emitting device is formed, face a direction opposite to the gravity direction.
(FR)
La présente invention concerne un appareil pour fabriquer un dispositif électroluminescent, caractérisé en ce qu'il comprend une pluralité de chambres de traitement pour réaliser un traitement de substrat afin de former un dispositif électroluminescent ayant une pluralité de couches comprenant une couche organique sur un sujet à traiter. L'appareil est également caractérisé en ce que chaque chambre de traitement est structurée de sorte que le traitement du substrat soit réalisé, tout en ayant une surface de montage de dispositif du substrat, sur laquelle est formé le dispositif électroluminescent, il fait face à une direction opposée à la direction de la gravité.
(JA)
 被処理基板上に有機層を含む複数の層を有する発光素子を形成するための基板処理が行われる、複数の処理室を有し、複数の処理室は、それぞれ、被処理基板の発光素子が形成される素子形成面が、重力方向と反対の方向を向くようにして被処理基板の基板処理が行われるように構成されていることを特徴とする発光素子の製造装置が開示される。
Également publié en tant que
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