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1. (WO2007145025) ÉLÉMENT ET DISPOSITIF OPTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/145025    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/058650
Date de publication : 21.12.2007 Date de dépôt international : 20.04.2007
CIB :
G02B 26/06 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01), G02B 5/08 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 1-1, Shibaura 1-chome Minato-ku, Tokyo 1058001 (JP) (Tous Sauf US).
TAWARAYAMA, Kazuo [JP/JP]; (US Seulement).
HIGASHIKI, Tatsuhiko [JP/JP]; (US Seulement).
HIGASHIKAWA, Iwao [JP/JP]; (US Seulement)
Inventeurs : TAWARAYAMA, Kazuo; .
HIGASHIKI, Tatsuhiko; .
HIGASHIKAWA, Iwao;
Mandataire : SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE 1-12-9, Toranomon Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-162072 12.06.2006 JP
Titre (EN) OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL DEVICE
(FR) ÉLÉMENT ET DISPOSITIF OPTIQUES
(JA) 光学素子及び光学装置
Abrégé : front page image
(EN)An optical element (40) comprises a substrate (10), a magnetostrictive film (11) arranged on the substrate (10) and having a film thickness variable depending on the strength of the magnetic field, and a reflective film (15) arranged on the magnetostrictive film (11) and reflecting light. An optical device comprises a stage (41) mounting the optical element (40) and having a holder (141) where a plurality of holes are arranged in the mounting surface for the optical element (40), a plurality of magnetic field generating portions (61) buried in the holes of the holder (141), and a control mechanism (150) for controlling the magnetic fields respectively generated from the magnetic field generating portions (61), thereby controlling the film thickness of the magnetostrictive film (11) of the optical element (40).
(FR)La présente invention concerne un élément optique (40) qui comprend un substrat (10), un film magnétostrictif (11) disposé sur le substrat (10) et ayant une épaisseur de film variable en fonction de la force du champ magnétique, et un film réfléchissant (15) disposé sur le film magnétostrictif (11) et réfléchissant la lumière. Le dispositif optique décrit comprend un étage (41) pour le montage de l'élément optique (40) et comportant un support (141) où est disposée une pluralité d'orifices dans la surface de montage pour l'élément optique (40), une pluralité de parties génératrices de champs magnétiques (61) enterrées dans les orifices du support (141), et un mécanisme de commande (150) pour commander les champs magnétiques générés respectivement à partir des parties génératrices de champs magnétiques (61), commandant ainsi l'épaisseur de film du film magnétostrictif (11) de l'élément optique (40).
(JA) 光学素子(40)は、基板(10)と、基板(10)上に配置され、磁場の強さに応じて膜厚が変動する磁歪膜(11)と、磁歪膜(11)上に配置され、光を反射する反射膜(15)とを備える。光学装置は、光学素子(40)を載置し、光学素子(40)の載置面に複数の孔が配列されたホルダー(141)を有するステージ(41)と、ホルダー(141)の複数の孔に埋め込まれた複数の磁場発生部(61)と、複数の磁場発生部(61)のそれぞれが発生させる磁場を制御し、光学素子(40)の磁歪膜(11)の膜厚を制御する制御機構(150)とを具備する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)