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1. (WO2007144967) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM À MOTIF ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/144967    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/320819
Date de publication : 21.12.2007 Date de dépôt international : 19.10.2006
CIB :
G03F 7/38 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Déposants : SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 4-4, Nishitemma 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308565 (JP) (Tous Sauf US).
FUKUI, Hiroji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AOKI, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ICHIMURA, Kunihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUEZAKI, Minoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ENAMI, Toshio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIZAWA, Hideaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UNATE, Takao [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUKUI, Hiroji; (JP).
AOKI, Kenichi; (JP).
ICHIMURA, Kunihiro; (JP).
SUEZAKI, Minoru; (JP).
ENAMI, Toshio; (JP).
ISHIZAWA, Hideaki; (JP).
UNATE, Takao; (JP).
KOBAYASHI, Hiroshi; (JP)
Mandataire : MIYAZAKI, Chikara; 6F, Daido Seimei Bldg. 5-4, Tanimachi 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5400012 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-163442 13.06.2006 JP
2006-197143 19.07.2006 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING PATTERNED FILM AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM À MOTIF ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) パターン膜の製造方法及び感光性樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a film pattern, in which a layer of photosensitive resin composition is formed on a substrate and exposed selectively through a mask to light to thereby obtain a film pattern provided on its surface with protrusions and depressions without the need to remove the layer of photosensitive resin composition at unexposed regions or exposed regions by, for example, development; and a photosensitive resin composition for use in the above process for producing a film pattern. There is provided a process for producing a patterned film, comprising the steps of preparing a photosensitive resin composition that upon light irradiation, generates an acid or a base and is hardened; coating substrate (2) with the photosensitive resin composition to thereby form photosensitive resin composition layer (1) of given thickness; and exposing the photosensitive resin composition layer (1) selectively through mask (3) to light so as to travel at least portion of the photosensitive resin composition at unexposed regions toward the exposed regions and further effect hardening thereof, thereby obtaining patterned film (1A) furnished on its surface with protrusion/depression pattern.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un film à motif, consistant à former une couche d'une composition de résine photosensible sur un substrat et à l'exposer de manière sélective à une lumière avec un masque pour obtenir ainsi un motif de film doté sur sa surface de saillies et de creux sans nécessité d'enlever la couche de composition de résine photosensible au niveau de zones non exposées ou de zones exposées par, par exemple, développement, et une composition de résine photosensible destinée audit procédé de production d'un film à motif. Le procédé de production d'un film à motif consiste à préparer une composition de résine photosensible qui, lorsqu'elle est soumise à des rayons lumineux, produit un acide ou une base et durcit, à revêtir un substrat (2) de la composition pour former ainsi une couche de composition de résine photosensible (1) d'une épaisseur donnée, et à exposer cette couche (1) de manière sélective à une lumière avec un masque (3) afin de déplacer au moins en partie la composition de résine photosensible dans des zones non exposées vers les zones exposées et à la durcir ensuite, ce qui permet d'obtenir un film à motif (1A) présentant sur sa surface un motif de saillies et de creux.
(JA) 基板上に感光性樹脂組成物層を形成し、マスクを介して光で選択的に感光性樹脂組成物層を露光した後に、例えば現像により未露光部または露光部の感光性樹脂組成物層を除去せずとも、表面に凹凸が形成された膜パターンを得ることができる膜パターンの製造方法、及び該膜パターンの製造方法に用いられる感光性樹脂組成物を提供する。  光の照射により酸又は塩基を発生し、硬化する感光性樹脂組成物を用意する工程と、基板2上に感光性樹脂組成物を塗布し、所定の厚みの感光性樹脂組成物層1を形成する工程と、マスク3を介して光で感光性樹脂組成物層1を選択的に露光し、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部を露光部に移動させ、さらに硬化させて、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜1Aを得る工程とを備える、パターン膜の製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)