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1. (WO2007144530) COMPOSITION COSMETIQUE ANTI-RADICAUX LIBRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/144530    N° de la demande internationale :    PCT/FR2007/051405
Date de publication : 21.12.2007 Date de dépôt international : 11.06.2007
CIB :
A61K 8/44 (2006.01), A61K 8/58 (2006.01), A61K 8/67 (2006.01), A61K 8/97 (2006.01), A61K 31/197 (2006.01), A61K 31/355 (2006.01), A61K 31/41 (2006.01), A61Q 17/04 (2006.01), A61Q 19/08 (2006.01), A61K 36/47 (2006.01), A61K 36/28 (2006.01), A61P 17/18 (2006.01), A61K 8/35 (2006.01), A61K 31/122 (2006.01)
Déposants : LVMH RECHERCHE [FR/FR]; 185, avenue de Verdun, F-45800 Saint Jean De Braye (FR) (Tous Sauf US).
ANDRE, Patrice [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
RENIMEL, Isabelle [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
GODENIR, Céline [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
HOCQUAUX, Michel [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : ANDRE, Patrice; (FR).
RENIMEL, Isabelle; (FR).
GODENIR, Céline; (FR).
HOCQUAUX, Michel; (FR)
Mandataire : PORTAL, Gérard; Cabinet Beau De Lomenie, 158 Rue de l'Université, F-75340 Paris Cedex 07 (FR)
Données relatives à la priorité :
0652099 12.06.2006 FR
Titre (EN) FREE-RADICAL-SCAVENGER COSMETIC COMPOSITION
(FR) COMPOSITION COSMETIQUE ANTI-RADICAUX LIBRES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a free-radical-scavenger cosmetic composition. This composition is characterized in that it comprises a combination of at least three of the following free-radical-scavenger active substances; said combination comprising: 1) either ebselen; or idebenone; or a combination of the two; and 2) at least one free-radical-scavenger active substance, or at least two free-radical-scavenger active substances, so as to obtain said combination of at least three free-radical-scavenger active substances, chosen from the group consisting of: a) a substance having the following chemical formula (I) in which: R = a linear or branched, saturated or unsaturated C1-C16 hydrocarbon-based chain; R1, R2 and R3 are identical or different, and represent a hydrogen atom, or a methyl radical or a methoxy radical or its esters; b) an extract of Edelweiss; c) an extract of Emblica; d) N-acetylcysteine. The free-radical scavenger activity is greatly improved with the invention.
(FR)L'invention concerne une composition cosmétique anti-radicaux libres. Cette composition est caractérisée en ce qu'elle comprend une association d'au moins trois des substances actives anti-radicaux libres suivantes; ladite association comprenant : 1) soit l'ebselen; soit l'idébénone; soit une association des deux; et 2) au moins une substance active anti-radicaux libres, ou au moins deux substances actives anti-radicaux libres pour obtenir ladite association d'au moins trois actives anti-radicaux libres, choisie(s) parmi le groupe consistant de : a) une substance de la formule chimique (I) suivante (I) dans laquelle : R = une chaîne hydrocarbonée en C1-C16, saturée ou insaturée, linéaire ou ramifiée; R1, R2, R3 sont identiques ou différents, et représentent un atome d'hydrogène, un radical méthyle ou méthoxyet ses esters : b) Un extrait d'Edelweiss; c) Un extrait d'Emblica d) la N-acétyl cystéïne. Avec l'invention, l'activité anti-radicaux libres est fortement améliorée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)