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1. (WO2007143331) SUBSTRAT DE NETTOYAGE ANTIMICROBIEN PRODUISANT PEU D'IRRITATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/143331    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/068700
Date de publication : 13.12.2007 Date de dépôt international : 10.05.2007
CIB :
G09B 25/00 (2006.01)
Déposants : THE CLOROX COMPANY [US/US]; 1221 Broadway, Oakland, CA 94612 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : MORALES, Sara; (US).
CARDOZO, Julio; (US).
FRITTER, Daniella; (US).
ROBBINS, Michael; (US)
Mandataire : GOEL, Alok.; The Clorox Company, P.O. Box 24305, Oakland, CA 94623-1305 (US)
Données relatives à la priorité :
11/421,277 31.05.2006 US
Titre (EN) LOW IRRITATION ANTIMICROBIAL CLEANING SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT DE NETTOYAGE ANTIMICROBIEN PRODUISANT PEU D'IRRITATION
Abrégé : front page image
(EN)The transfer of antimicrobial agent from a cleaning substrate to the skin can be reduced resulting in reduced skin irritancy when the viscosity of the cleaning composition containing the antimicrobial is increased in viscosity. The transfer is measured by the Simulated Hand Transfer Method. The cleaning substrate is used to clean hard surfaces, especially bathroom surfaces such as toilets, and is attached to a cleaning implement. Also provided is a method of promoting a product having reduced skin irritancy.
(FR)La présente invention concerne la possibilité de réduire le transfert d'un agent antimicrobien d'un substrat de nettoyage sur la peau, conduisant à une irritation cutanée réduite lorsque la viscosité de la composition de nettoyage contenant l'agent antimicrobien est accrue. Le transfert est mesuré au moyen du procédé de transfert manuel simulé. Le substrat de nettoyage est utilisé pour nettoyer des surfaces dures, en particulier des surfaces de salle de bain telles que les cuvettes de toilette, et il est fixé à un ustensile de nettoyage. L'invention concerne également un procédé de mise en valeur d'un produit faiblement irritant pour la peau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)