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1. (WO2007142259) COMPLEXE CONTENANT DE LA 2-BENZYL-5-(4-CHLOROPHÉNYL)-6-[4-(MÉTHYLTHIO)PHÉNYL]-2H-PYRIDAZIN-3-ONE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/142259    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/061442
Date de publication : 13.12.2007 Date de dépôt international : 06.06.2007
CIB :
A61K 31/50 (2006.01), A61K 9/18 (2006.01), A61K 47/02 (2006.01)
Déposants : KOWA COMPANY, LTD. [JP/JP]; 6-29, Nishiki 3-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4608625 (JP) (Tous Sauf US).
MIURA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KANEBAKO, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
INAGI, Toshio [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIURA, Hiroshi; (JP).
KANEBAKO, Makoto; (JP).
INAGI, Toshio; (JP)
Mandataire : SAEKI, Norio; 4th Floor, Aminosan Kaikan Building 15-8, Nihonbashi 3-chome Chuo-ku, Tokyo 1030027 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-156857 06.06.2006 JP
Titre (EN) 2-BENZYL-5-(4-CHLOROPHENYL)-6-[4-(METHYLTHIO)PHENYL]-2H-PYRIDAZINE-3-ONE-CONTAINING COMPLEX AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) COMPLEXE CONTENANT DE LA 2-BENZYL-5-(4-CHLOROPHÉNYL)-6-[4-(MÉTHYLTHIO)PHÉNYL]-2H-PYRIDAZIN-3-ONE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) 2-ベンジル-5-(4-クロロフェニル)-6-[4-(メチルチオ)フェニル]-2H-ピリダジン-3-オン含有複合体及びその製造法
Abrégé : front page image
(EN)It is intended to provide a preparation excellent in elution property and adsorption efficiency of 2-benzyl-5-(4-chlorophenyl(-6-[4-(methylthio)phenyl]-2H-pyridazine-3-one and a process for producing the same. The invention provides a complex of 2-benzyl-5-(4-chlorophenyl)-6-[4-(methylthio)phenyl]-2H-pyridazine-3-one and a silica having a sulfonic acid group in which 2-benzyl-5-(4-chlorophenyl)-6-[4-(methylthio)phenyl]-2H-pyridazine-3-one is adsorbed onto the silica having a sulfonic acid group, and a process for producing the complex comprising the steps of: mixing 2-benzyl-5-(4-chlorophenyl)-6-[4-(methylthio)phenyl]-2H-pyridazine-3-one anda silica having a sulfonic acid group in the presence of a supercritical fluid or a subcritical fluid; and removing the supercritical fluid or subcritical fluid from the mixture. The invention enables a compound 1 which is a very poorly water soluble drug to be efficiently adsorbed onto silica and can provide a preparation excellent in a property of eluting the compound 1 adsorbed onto silica.
(FR)La présente invention concerne une préparation présentant d'excellentes propriétés d'élution et d'adsorption de 2-benzyl-5-(4-chlorophényl)-6-[4-(méthylthio)phényl]-2H-pyridazin-3-one, ainsi qu'un procédé pour la production de celle-ci. L'invention concerne un complexe de 2-benzyl-5-(4-chlorophényl)-6-[4-(méthylthio)phényl]-2H-pyridazin-3-one et un oxyde de silicium ayant un groupe acide sulfonique dans lequel le 2-benzyl-5-(4-chlorophényl)-6-[4-(méthylthio)phényl]-2H-pyridazin-3-one est adsorbé sur l'oxyde de silicium ayant un groupe acide sulfonique, ainsi qu'un procédé de production dudit complexe comprenant les étapes consistant à : mélanger le 2-benzyl-5-(4-chlorophényl)-6-[4-(méthylthio)phényl]-2H-pyridazin-3-one et un oxyde de silicium ayant un groupe acide sulfonique en présence d'un fluide surcritique ou sous-critique ; puis à retirer le fluide surcritique ou sous-critique du mélange. L'invention permet l'adsorption efficace d'un composé 1, lequel est un médicament très peu soluble dans l'eau, sur un oxyde de silicium et permet l'obtention d'une préparation excellente en matière d'élution du composé 1 adsorbé sur l'oxyde de silicium.
(JA) 2-ベンジル-5-(4-クロロフェニル)-6-[4-(メチルチオ)フェニル]-2H-ピリダジン-3-オンの溶出性および吸着効率に優れた製剤とその製造方法を提供するものである。  本発明は、2-ベンジル-5-(4-クロロフェニル)-6-[4-(メチルチオ)フェニル]-2H-ピリダジン-3-オンがスルホン酸基を有するシリカに吸着されている、2-ベンジル-5-(4-クロロフェニル)-6-[4-(メチルチオ)フェニル]-2H-ピリダジン-3-オンとスルホン酸基を有するシリカとの複合体、並びに2-ベンジル-5-(4-クロロフェニル)-6-[4-(メチルチオ)フェニル]-2H-ピリダジン-3-オンとスルホン酸基を有するシリカとを、超臨界流体又は亜臨界流体の存在下に混合する工程、及び該混合物から超臨界流体又は亜臨界流体を除去する工程を含む、前記複合体の製造方法を提供する。本発明は、超難水溶性の薬物である化合物1を効率的にシリカに吸着させることができ、またそのシリカに吸着した化合物1の溶出性に優れた製剤を提供することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)