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1. (WO2007142056) DISPOSITIF D'INTRODUCTION DE GAZ, PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/142056    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/060777
Date de publication : 13.12.2007 Date de dépôt international : 28.05.2007
CIB :
H01L 21/31 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
HANADA, Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HANADA, Yoshiyuki; (JP)
Mandataire : YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-156182 05.06.2006 JP
Titre (EN) GAS INTRODUCTION DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PROCESSING DEVICE DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'INTRODUCTION DE GAZ, PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT
(JA) ガス導入装置、この製造方法及び処理装置
Abrégé : front page image
(EN)A gas introduction device which can quickly and simultaneously perform the start and stop of gas supply from each gas ejection hole. The gas introduction device (24) placed in a processing container (22), from which gas can be discharged, is provided with a gas introduction head body (110) facing the inside of the processing container. The gas introduction head body (110) is provided with a supply gas channel (112) in which supply gas flows, an exhaust gas channel (114), a control gas channel (116) in which control gas flows, and gas ejection holes (28) provided in that surface of the gas introduction head body that faces the processing container. Further, a gas introduction head body (18) is provided with pure fluid logic elements (118) communicating with the supply gas channel, the exhaust gas channel, and the control gas channel and corresponding to the gas ejection holes.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'introduction de gaz susceptible d'effectuer rapidement et simultanément le démarrage et l'arrêt d'une alimentation de gaz à partir de chaque trou d'éjection de gaz. Le dispositif (24) d'introduction de gaz placé dans un récipient (22) de traitement, à partir duquel du gaz peut être libéré, est pourvu d'un corps (110) de tête d'introduction de gaz tourné vers l'intérieur du récipient de traitement. Le corps (110) de tête d'introduction de gaz est pourvu d'un canal (112) de gaz d'alimentation dans lequel circule du gaz d'alimentation, d'un canal (114) de gaz d'échappement, d'un canal (116) de gaz de régulation dans lequel circule du gaz de régulation et de trous (28) d'éjection de gaz pratiqués dans la surface du corps de tête d'introduction de gaz en regard du récipient de traitement. En outre, un corps (18) de tête d'introduction de gaz est pourvu d'éléments (118) à logique fluide pure communiquant avec le canal de gaz d'alimentation, le canal de gaz d'échappement et le canal de gaz de régulation et correspondant aux trous d'éjection de gaz.
(JA) 各ガス噴射からのガスの供給開始及び供給停止を迅速に且つ同時に行うことが可能なガス導入装置を提供する。  排気可能になされた処理容器22に配置されたガス導入装置24は、前記処理容器内に臨ませて設けられるガス導入ヘッド体110を備えている。前記ガス導入ヘッド体に供給ガスを流す供給ガス流路112と、排気流路114と、制御ガスを流す制御ガス流路116と、前記ガス導入ヘッド体の前記処理容器を臨む面に設けた複数のガス噴射孔28とが設けられている。またガス導入ヘッド体18に、前記供給ガス流路と前記排気流路と前記制御ガス流路とに連通されて前記ガス噴射孔に対応させて設けられた純流体論理素子118が設けられている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)