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1. (WO2007141998) FILM DE PROTECTION CONTRE LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES À FRÉQUENCE SÉLECTIVE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/141998    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/059934
Date de publication : 13.12.2007 Date de dépôt international : 15.05.2007
CIB :
H05K 9/00 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP) (Tous Sauf US).
HONDA, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HONDA, Makoto; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-156998 06.06.2006 JP
Titre (EN) FREQUENCY-SELECTIVE ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) FILM DE PROTECTION CONTRE LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES À FRÉQUENCE SÉLECTIVE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 周波数選択性電磁波遮蔽フィルム及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a frequency-selective electromagnetic wave shielding film which is highly transparent to light and can selectively shield a specific frequency. The frequency-selective electromagnetic wave shielding film comprises an antenna element pattern which can selectively reflect electromagnetic waves. The antenna element pattern is a metal silver pattern formed by providing an original plate for an electromagnetic wave shielding material, comprising a support and a silver halide particle-containing layer provided on the support, and subjecting the original plate to exposure and developing treatment to form a metal silver pattern formed in the layer provided in the original plate for an electromagnetic wave shielding material. The manufacture of the antenna element pattern is carried out using an original plate for an electromagnetic wave shielding material, comprising at least two silver halide photosensitive layers stacked on top of each other.
(FR)La présente invention concerne un film de protection contre les ondes électromagnétiques à fréquence sélective, très transparent à la lumière et qui peut protéger, de manière sélective, contre une fréquence spécifique. Le film de protection contre les ondes électromagnétiques à fréquence sélective comprend un motif d'élément d'antenne capable de réfléchir des ondes électromagnétiques de manière sélective. Le motif d'élément d'antenne est un motif en argent métallique formé en fournissant une plaque originale pour un matériau de protection contre les ondes électromagnétiques, comprenant un soutien et une couche contenant des particules d'halogénure d'argent prévue sur le soutien et soumettant la plaque initiale à une exposition et développant un traitement pour former un motif d'argent métallique formé dans la couche prévue dans la plaque originale pour un matériau de protection contre les ondes électromagnétiques. La fabrication du motif d'élément d'antenne est réalisée à l'aide d'une plaque originale pour un matériau de protection contre les ondes électromagnétiques, comprenant au moins deux couches photosensibles d'halogénure d'argent empilées l'une sur l'autre.
(JA) 透光性が高く、かつ特定の周波数を選択的に遮蔽可能な周波数選択性電磁波遮蔽フィルムは、電磁波を選択的に反射するアンテナ素子パターンを有する周波数選択性電磁波遮蔽フィルムにおいて、前記アンテナ素子パターンが、支持体上にハロゲン化銀粒子を含有する層を設けた電磁波遮蔽材料用原版に、露光、現像処理を施すことで、前記電磁波遮蔽材料用原版に設けられた前記層中に形成された金属銀のパターンであることによって得られ、その製造は少なくとも2層のハロゲン化銀感光性層が積層して設けられた電磁波遮蔽材料用原版を用いて行われる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)