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Paramétrages

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1. WO2007141292 - AGENCEMENT ET PROCÉDÉ POUR ACCÉLÉRER DES PARTICULES

Numéro de publication WO/2007/141292
Date de publication 13.12.2007
N° de la demande internationale PCT/EP2007/055560
Date du dépôt international 06.06.2007
CIB
C23C 24/04 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
24Revêtement à partir de poudres inorganiques
02en utilisant uniquement une pression
04Dépôt de particules par impact
B05B 7/14 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
BAPPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
7Appareillages de pulvérisation pour débiter des liquides ou d'autres matériaux fluides provenant de plusieurs sources, p.ex. un liquide et de l'air, une poudre et un gaz
14agencés pour projeter des matériaux en particules
CPC
B05B 7/1404
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
7Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
14designed for spraying particulate materials
1404Arrangements for supplying particulate material
B82Y 30/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
30Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
C23C 16/4417
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
4417Methods specially adapted for coating powder
C23C 24/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
24Coating starting from inorganic powder
02by application of pressure only
04Impact or kinetic deposition of particles
Déposants
  • SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2 80333 München, DE (AllExceptUS)
  • JENSEN, Jens Dahl [DK/DE]; DE (UsOnly)
  • KRÜGER, Ursus [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • KÖRTVELYESSY, Daniel [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • ULLRICH, Raymond [US/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • JENSEN, Jens Dahl; DE
  • KRÜGER, Ursus; DE
  • KÖRTVELYESSY, Daniel; DE
  • ULLRICH, Raymond; DE
Représentant commun
  • SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT; Postfach 22 16 34 80506 München, DE
Données relatives à la priorité
10 2006 027 754.609.06.2006DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM BESCHLEUNIGEN VON PARTIKELN
(EN) ARRANGEMENT AND METHOD FOR ACCELERATING PARTICLES
(FR) AGENCEMENT ET PROCÉDÉ POUR ACCÉLÉRER DES PARTICULES
Abrégé
(DE)
Die Erfindung bezieht sich u. a. auf ein Verfahren zum Beschleunigen von Partikeln. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass als Partikel Nanopartikel (40) beschleunigt werden und ein Nanopartikelstrom (S3) erzeugt wird, indem die Nanopartikel in ein Flüssiggas (30) eingebracht werden und indem das Flüssiggas von dem flüssigen Aggregatzustand in den gasförmigen Aggregatzustand überführt und die dabei auftretende Druckerhöhung zum Beschleunigen der Nanopartikel genutzt wird.
(EN)
The invention relates, inter alia, to a method for accelerating particles. The invention provides that nanoparticles (40) are accelerated as particles and a nanoparticle stream (S3) is produced by introducing the nanoparticles into a liquid gas (30) and by the liquid gas being converted from the liquid aggregate state into the gaseous aggregate state, with the occurring pressure increase being used to accelerate the nanoparticles.
(FR)
L'invention concerne entre autres un procédé pour accélérer des particules. Conformément à l'invention, les particules accélérées sont des nanoparticules (40) et un courant de nanoparticules (S3) est produit, les nanoparticules étant incorporées dans un gaz liquide (30) et le gaz liquide étant transféré de l'état liquide dans l'état gazeux et l'augmentation de pression associée étant utilisée pour accélérer les nanoparticules.
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