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Paramétrages

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1. WO2007140931 - CORPS REVÊTU ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Numéro de publication WO/2007/140931
Date de publication 13.12.2007
N° de la demande internationale PCT/EP2007/004859
Date du dépôt international 01.06.2007
CIB
C23C 16/02 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
02Pré-traitement du matériau à revêtir
C23C 16/27 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
22caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
26Dépôt uniquement de carbone
27Le diamant uniquement
CPC
C23C 16/0227
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
02Pretreatment of the material to be coated
0227by cleaning or etching
C23C 16/27
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
22characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
26Deposition of carbon only
27Diamond only
H05K 3/0044
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
3Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
0011Working of insulating substrates or insulating layers
0044Mechanical working of the substrate, e.g. drilling or punching
H05K 3/0047
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
3Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
0011Working of insulating substrates or insulating layers
0044Mechanical working of the substrate, e.g. drilling or punching
0047Drilling of holes
Y10T 428/24331
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
24273including aperture
24322Composite web or sheet
24331including nonapertured component
Déposants
  • CEMECON AG [DE/DE]; Adenauerstrasse 20B1 52146 Würselen, DE (AllExceptUS)
  • GUSSONE, Joachim [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • GUSSONE, Joachim; DE
Mandataires
  • KALKOFF, Ingo; Wenzel & Kalkoff Postfach 24 48 58414 Witten, DE
Données relatives à la priorité
10 2006 026 253.002.06.2006DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) BESCHICHTETER KÖRPER UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG
(EN) COATED BODY AND METHOD FOR ITS PRODUCTION
(FR) CORPS REVÊTU ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé
(DE)
Beschrieben werden ein beschichteter Körper und Verfahren zur Vorbehandlung und Beschichtung eines Körpers. Der Körper weist ein Substrat aus einem Hartmetall oder Cermet, bestehend aus Hartstoffpartikeln i und Bindermaterial (2) und eine darauf angebrachte haftende Diamantschicht (4) auf. Mindestens ein Teil der Hartstoffpartikel (1) an der Oberfläche des Substrats und unter der Diamantschicht (4) weisen transkristalline Vertiefungen in Form von Löchern auf. Das Substrat kann aus Hartmetall überwiegend bestehend aus WC und Co bestehen. Eine CVD-Diamantschicht kann auf den Funktionsflächen aufgebracht sein. Bei wenigstens einer der diamantbeschichteten Funktionsflächen ist der Cobalt-Gehalt der Oberfläche angegeben in Gew.-% im Verhältnis zum WC gemessen mittels energiedispersiver Röntgenfluoreszenz nur um maximal 50% gegenüber dem unbehandelten Substrat vermindert. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden Hartstoffpartikel an der Oberfläche des Substrats auf che- mischem Wege transkristallin so angeätzt, daß Vertiefungen in Form von Einbuchtungen oder Löchern entstehen.
(EN)
A description is given of a coated body and a method for producing and coating a body. The body has a substrate of a hard metal or cermet, comprising hard material particles (1) and binder material (2) and an adhering diamond layer (4) provided on top. At least some of the hard material particles (1) on the surface of the substrate and under the diamond layer (4) have transcrystalline depressions in the form of holes. The substrate may consist of hard metal, preferably consisting of WC and Co. A CVD diamond layer may be applied to the functional surfaces. In the case of at least one of the diamond-coated functional surfaces, the cobalt content of the surface, specified in % by weight, in relation to the WC, measured by means of energy-dispersive X-ray fluorescence, is only reduced by a maximum of 50% in comparison with the untreated substrate. In the method according to the invention, hard material particles on the surface of the substrate are subjected to transcrystalline corrosion by chemical etching in such a way that depressions are created in the form of pits or holes.
(FR)
La présente invention concerne un corps revêtu et un procédé de prétraitement et de revêtement d'un tel corps. Le corps comprend un substrat de métal dur ou de cermet, consistant en particules de céramique et de matériau liant (2) et une couche de diamant (4) adhésive appliquée sur le substrat. Au moins une partie des particules de céramique (1) à la surface du substrat et sous la couche de diamant (4) comporte des dépressions transcristallines en forme de trous. Le substrat peut être constitué de métal dur, la plupart du temps de WC ou de Co. Une couche de diamant peut être appliquée par CVD sur les surfaces fonctionnelles. Dans le cas d'au moins une des surfaces fonctionnelles recouvertes de diamant, la teneur pondérale en cobalt de la surface en % par rapport au WC mesurée par la fluorescence de Röntgen à dispersion d'énergie n'est réduite que de 50% au maximum par rapport au substrat non traité. Le procédé selon l'invention permet de réaliser des gravures transcristallines par voie chimique des particules de céramique à la surface du substrat de façon à produire des dépressions en forme de creux ou de trous.
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