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1. WO2007139312 - COMPOSITION DE RÉSINE NÉGATIVE COLORÉE, MOTIF COLORÉ COMPRENANT CETTE COMPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CE MOTIF COLORÉ

Numéro de publication WO/2007/139312
Date de publication 06.12.2007
N° de la demande internationale PCT/KR2007/002539
Date du dépôt international 25.05.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 14.03.2008
CIB
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
CPC
G03F 7/0007
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
G03F 7/033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
032with binders
033the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
G03F 7/105
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
09characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
105having substances, e.g. indicators, for forming visible images
Déposants
  • DONGWOO FINE-CHEM. CO., LTD. [KR/KR]; 8th Fl., City Air Tower, 159-9 Samsung-Dong, Kangnam-gu Seoul 135-973, KR (AllExceptUS)
  • KIM, Seong Hyeon [KR/KR]; KR (UsOnly)
  • LEE, Seung No [KR/KR]; KR (UsOnly)
  • KIM, Sang Tae [KR/KR]; KR (UsOnly)
Inventeurs
  • KIM, Seong Hyeon; KR
  • LEE, Seung No; KR
  • KIM, Sang Tae; KR
Mandataires
  • HAN YANG PATENT FIRM; 9F Keungil Tower 677-25 Yeoksam-dong, Gangnam-gu Seoul 135-914, KR
Données relatives à la priorité
10-2006-004744926.05.2006KR
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) COLORED NEGATIVE PHOTORESIST COMPOSITION, COLORED PATTERN COMPRISING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING THE COLORED PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE NÉGATIVE COLORÉE, MOTIF COLORÉ COMPRENANT CETTE COMPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CE MOTIF COLORÉ
Abrégé
(EN)
The present invention relates to a colored negative photoresist composition comprising a coloring agent (A), an alkali soluble binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent (E), wherein the alkali soluble binder polymer (B) is a polymer comprising the monomer represented by the following Formula 1 and a monomer having a carboxyl group. The colored negative photoresist composition of the present invention improves adhesion to a silicone wafer, in particular, an SiN wafer, to prevent a separation or tear in the lining, and to form a rectangular pattern, thereby being able to be effectively used in a complementary metal oxide semiconductor.
(FR)
La présente invention concerne une composition de résine négative colorée comprenant un colorant (A), un liant polymère soluble dans les alcalis (B), un composé photopolymérisable (C), un initiateur de photopolymérisation (D) et un solvant (E), le liant polymère soluble dans les alcalis (B) étant un polymère comprenant le monomère représenté par la formule 1 et un monomère comportant un groupe carboxyle. La composition de résine négative colorée selon l'invention améliore l'adhérence sur une tranche de silicium, en particulier une tranche de SiN, pour empêcher une séparation ou une déchirure du revêtement et former un motif rectangulaire, ce qui permet de l'utiliser de manière efficace dans un semi-conducteur complémentaire à l'oxyde de métal.
Également publié en tant que
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