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1. (WO2007139092) PROCÉDÉ DE DÉCONTAMINATION D'UNE ZONE SE TROUVANT À PROXIMITÉ D'UNE SURFACE CONTAMINÉE PAR RADIOISOTOPES SE SERVANT D'UN DÉCOLLEMENT PAR LASER NON THERMIQUE SANS REFUSION, SANS REDIFFUSION ET SANS RECONTAMINATION, ET APPAREIL CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/139092    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/060872
Date de publication : 06.12.2007 Date de dépôt international : 29.05.2007
CIB :
G21F 9/28 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01), H01S 3/30 (2006.01)
Déposants : JAPAN ATOMIC ENERGY AGENCY [JP/JP]; 4-49, Muramatsu, Tokai-mura, Naka-gun, Ibaraki 3191184 (JP) (Tous Sauf US).
THE JAPAN ATOMIC POWER COMPANY [JP/JP]; 1-1, Kanda Mitoshiro-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010053 (JP) (Tous Sauf US).
MINEHARA, Eisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MINEHARA, Eisuke; (JP)
Mandataire : SHAMOTO, Ichio; YUASA AND HARA, Section 206, New Ohtemachi Bldg., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-147918 29.05.2006 JP
Titre (EN) METHOD OF DECONTAMINATING RADIOISOTOPE-CONTAMINATED SURFACE VICINITY REGION BY USE OF NONTHERMAL LASER PEELING WITHOUT RE-MELTING, WITHOUT RE-DIFFUSION AND WITHOUT RE-CONTAMINATION, AND APPARATUS THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE DÉCONTAMINATION D'UNE ZONE SE TROUVANT À PROXIMITÉ D'UNE SURFACE CONTAMINÉE PAR RADIOISOTOPES SE SERVANT D'UN DÉCOLLEMENT PAR LASER NON THERMIQUE SANS REFUSION, SANS REDIFFUSION ET SANS RECONTAMINATION, ET APPAREIL CORRESPONDANT
(JA) 放射性同位元素に汚染された表面近傍部位を非熱的レーザー剥離を用いて再溶融無く、再拡散無く、且つ再汚染無く除染する方法とその装置
Abrégé : front page image
(EN)With respect to the method of removing a surface-adhering coating contaminated with radioisotope, as the applicability conditions, such as object, place and configuration, are strict, the scope of application thereof is quite limited. Thus, 100% decontamination cannot be attained, and while half or more can be decontaminated, substantial portion of the adhering radioisotope remains, that is, the decontamination capacity effect is very limited. There is provided a method of decontamination by the use of nonthermal laser peeling without re-melting, without re-diffusion and without re-contamination, in which parts, structures, etc. with surface contaminated with radioisotope of an accelerator, atomic reactor, radioisotope production plant, nuclear fuel plant, nuclear fuel reprocessing plant, etc. are exposed to nonthermal laser irradiation so that laser-irradiated surface vicinity regions are evaporated off faster than the transfer of heat generated in the vicinity of irradiated surface to its periphery.
(FR)Les conditions d'applications, tels un objet, un emplacement et une configuration, d'un procédé de retrait de revêtement, adhérant à une surface, contaminé par des radioisotopes étant strictes, le champ d'application du procédé est assez limité. On ne peut donc parvenir à 100 % de décontamination et, alors qu'une décontamination est possible à 50 % ou plus, une partie importante du radioisotope adhérant reste, en d'autres termes, la capacité de décontamination est très limitée. L'invention porte donc sur un procédé de décontamination qui se sert d'un décollement par laser non thermique sans refusion, sans rediffusion et sans recontamination, dans lequel des parties, des structures, etc., dont la surface a été contaminée par des radioisotopes provenant d'un accélérateur, d'un réacteur atomique, d'une installation de production de radioisotopes, d'une installation de combustible nucléaire, d'une installation de retraitement de combustible nucléaire, etc., sont exposées à un rayonnement laser non thermique de telle sorte que les zones à proximité de la surface exposées aux rayons laser s'évaporent plus vite que le transfert de chaleur généré à proximité de la surface irradiée vers sa périphérie.
(JA) 放射性同位元素で汚染された表面固着皮膜を除去する方法は、対象物、場所、形状等の適用可能条件が厳しく、応用範囲がかなり限定され、100%除染できるわけで無く、半分以上は除染可能であるが、固着した放射性同位元素の大きな部分が残留し、その除染能力効果が限られている。  加速器、原子炉、放射性同位元素製造工場、核燃料工場、核燃料再処理工場など放射性同位元素に汚染された表面を持つ部品、構造物などを非熱的レーザー照射により、照射表面近傍に発生する熱がその周辺部に伝達されるよりも早く、レーザー照射された表面近傍部位を蒸発させ、除去するところの非熱的レーザー剥離を用いて再溶融無く、再拡散無く、且つ再汚染無く除染する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)