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Paramétrages

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1. WO2007139005 - COMPOSITION THERMODURCISSABLE POUR FILM PROTECTEUR, PRODUIT POLYMÉRISÉ, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES

Numéro de publication WO/2007/139005
Date de publication 06.12.2007
N° de la demande internationale PCT/JP2007/060682
Date du dépôt international 25.05.2007
CIB
G03F 7/027 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
027Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
CPC
G03F 7/0007
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
G03F 7/027
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
G03F 7/033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
032with binders
033the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Déposants
  • 三菱化学株式会社 Mitsubishi Chemical Corporation [JP/JP]; 〒1080014 東京都港区芝四丁目14番1号 Tokyo 14-1, Shiba 4-chome Minato-ku, Tokyo 1080014, JP (AllExceptUS)
  • 亀山泰弘 KAMEYAMA, Yasuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 亀山泰弘 KAMEYAMA, Yasuhiro; JP
Mandataires
  • 重野剛 SHIGENO, Tsuyoshi; 〒1600022 東京都新宿区新宿二丁目5番10号日伸ビル9階 Tokyo Nissin bldg., 9F 5-10, Shinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Données relatives à la priorité
2006-15204631.05.2006JP
2006-20654428.07.2006JP
2007-13431621.05.2007JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) HEAT CURABLE COMPOSITION FOR PROTECTIVE FILM, CURED PRODUCT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION THERMODURCISSABLE POUR FILM PROTECTEUR, PRODUIT POLYMÉRISÉ, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 保護膜用熱硬化性組成物、硬化物、及び液晶表示装置
Abrégé
(EN)
This invention provides a heat curable composition for a protective film which is excellent in separability after exposure and development, is free from coloration upon hard baking, has good light transmittance in a visible light region, and can form a protective layer having excellent chemical resistance after heat curing. The heat curable composition comprises (A) an alkali soluble resin, (B) a compound containing two or more ethylenically unsaturated groups, and (C) a photopolymerization initiator. The content of the ethylenically unsaturated group based on the total weight of the components (A) and (B) is not less than 1 mmol/g and not more than 5 mmol/g. The rate of dissolution of an exposed film, formed by exposing the heat curable composition for a protective film to light at an optimal dose for curing, in a 0.4 wt% aqueous tetramethylammonium hydroxide solution (25°C) is not more than 2.3 µm/min.
(FR)
Cette invention concerne une composition thermodurcissable destinée à un film protecteur, qui présente d'excellentes qualités de détachement après exposition et développement, est exempte de coloration après cuisson dure, présente un bon coefficient de transmission de la lumière dans la zone de la lumière visible, et peut constituer une couche de protection présentant une excellente résistance chimique apprès polymérisation. La composition thermodurcissable comprend: a) une résine soluble dans l'alcali; b) un composé contenant au moins deux groupes éthyléniquement insaturés; et c) un initiateur de photopolymérisation. La teneur du groupe éthyléniquement insaturé, telle que mesurée par rapport au poids total des constituants a) et b), est d'au moins 1 mmol/g et d'au plus 5 mmol/g. La vitesse de dissolution d'un film exposé, formé par exposition à la lumière de ladite composition thermodurcissable selon une dose optimale pour la polymérisation dans une solution aqueuse d'hydroxyde de tétraméthylammonium de 0,4 % en poids (25°C), est d'au plus 2,3 µm/min.
(JA)
 露光・現像後の剥離性に優れ、ハードベーク時の着色がなく、可視光領域での光透過率が良好で、熱硬化後の耐薬品性に優れた保護層を形成することが可能な保護膜用熱硬化性組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)エチレン性不飽和基を2個以上有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する。成分(A)及び成分(B)の総重量に対するエチレン性不飽和基の含有量は、1ミリモル/g以上5ミリモル/g以下である。この保護膜用熱硬化性組成物を用い、最適露光量で露光して硬化して形成した露光膜の0.4重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(25°C)中での溶解速度は、2.3μm/分以下である。
Également publié en tant que
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