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1. (WO2007138873) Composition de rÉsine photosensible pour exposition par immersion, et procÉdÉ de formation d'un motif de rÉsine photosensible
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/138873    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/060134
Date de publication : 06.12.2007 Date de dépôt international : 17.05.2007
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), C07C 381/12 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
UTSUMI, Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : UTSUMI, Yoshiyuki; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-148172 29.05.2006 JP
Titre (EN) RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN
(FR) Composition de rÉsine photosensible pour exposition par immersion, et procÉdÉ de formation d'un motif de rÉsine photosensible
(JA) 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a resist composition for immersion exposure, comprising: a resin component (A) whose alkali solubility can be changed by the action of an acid; and an acid-generator component (B) which can generate an acid upon being exposed to light, wherein the acid-generator component (B) comprises an acid-generator (B1) having a cationic moiety represented by the general formula (b1-1). (b1-1) wherein R42 and R43 independently represent an alkyl group, an alkoxy group or a hydroxyl group; and n2 and n3 independently represent an integer ranging from 0 to 2.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible pour exposition par immersion comprenant : un composant de résine (A) dont la solubilité des alcali peut être modifiée par l'action d'un acide ; et un composant générateur d'acide (B) qui peut générer un acide lors de l'exposition à la lumière, le composant générateur d'acide (B) comprenant un générateur d'acide (B1) comportant une fraction cationique représentée par la formule générale (b1-1). (b1-1) dans laquelle R42 et R43 représentent indépendamment un groupe alkyle, un groupe alcoxy ou un groupe hydroxyle ; et n2 et n3 représentent indépendamment un entier allant de 0 à 2.
(JA) 酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有する液浸露光用レジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表されるカチオン部を有する酸発生剤(B1)を含む。 [式中、R42およびR43はそれぞれ独立してアルキル基、アルコキシ基またはヒドロキシ基を示し;nおよびnはそれぞれ独立して0~2の整数である。]
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)