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1. (WO2007138834) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/138834    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/059717
Date de publication : 06.12.2007 Date de dépôt international : 11.05.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
OKITA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OKITA, Shinichi; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-151208 31.05.2006 JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 露光装置及び露光方法
Abrégé : front page image
(EN)In an exposure apparatus, an area to be exposed on a second object (P) is exposed by the image of a pattern on a first object (M), by illuminating the pattern with an illuminating beam (EL). The exposure apparatus is provided with a scanning apparatus (22) for scanning the first object in a prescribed scanning direction with the illuminating beam, and an exposure apparatus (DK) for guiding the illuminating beams which have scanned the first object to above the region of the second object to be exposed.
(FR)Dans l'appareil d'exposition selon l'invention, une zone à exposer sur un second objet (P) est exposée par l'image d'un motif sur un premier objet (M), en éclairant le motif avec un faisceau éclairant (EL). L'appareil d'exposition comporte un appareil de balayage (22) servant à balayer le premier objet dans une direction de balayage prescrite avec le faisceau éclairant, et un appareil d'exposition (DK) servant à guider les faisceaux éclairants qui ont balayé le premier objet au-dessus de la zone du second objet à exposer.
(JA) 露光装置は、第1物体(M)上のパターンを照明ビーム(EL)で照明して、該パターンの像で第2物体(P)上の被露光領域を露光する。露光装置は、照明ビームを、第1物体上で、所定の走査方向に沿って走査させる走査装置(22)と、第1物体を走査した照明ビームを、第2物体上の被露光領域上に導く導光装置(DK)とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)