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Paramétrages

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1. WO2007137763 - systÈme optique, systÈme d'Éclairage pour appareil d'exposition par projection microlithographique, appareil d'exposition par projection microlithographique et procÉdÉ d'exposition par projection

Numéro de publication WO/2007/137763
Date de publication 06.12.2007
N° de la demande internationale PCT/EP2007/004622
Date du dépôt international 24.05.2007
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70108
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
70108Off-axis setting using a light-guiding element
G03F 7/70183
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
7015Details of optical elements
70183Zoom systems
Déposants
  • CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
  • KOHL, Alexander [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • KOHL, Alexander; DE
Mandataires
  • PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; Kronenstrasse 30 70174 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité
10 2006 025 025.726.05.2006DE
60/808,54226.05.2006US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND PROJECTION EXPOSURE
(FR) systÈme optique, systÈme d'Éclairage pour appareil d'exposition par projection microlithographique, appareil d'exposition par projection microlithographique et procÉdÉ d'exposition par projection
Abrégé
(EN)
An optical system (250) for altering radiation passing through from an entrance surface (261) to an exit surface (263) of the optical system is assigned a feedback device for feeding back the radiation led through the optical system in a first passage from the exit surface (263) to the entrance surface (261) of the optical system. The feedback device is set up such that the radiation altered by the optical system in a first passage passes through the optical system a second time in the same passage direction. The optical system may be incorporated in an illumination system for a microlithography projection exposure apparatus.
(FR)
L'invention concerne un système optique conçu pour modifier un rayonnement traversant depuis une surface d'entrée vers une surface de sortie du système optique se voyant attribuer un dispositif de retour pour renvoyer le rayonnement conduit à travers le système optique dans un premier passage depuis la surface de sortie vers la surface d'entrée du système optique. Le dispositif de retour est configuré de telle sorte que le rayonnement modifié par le système optique dans un premier passage traverse le système optique une seconde fois dans la même direction de passage. Le système optique peut être incorporé dans un système d'éclairage pour un appareil d'exposition par projection microlithographique.
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