WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007109252) PROCEDE DE TRAITEMENT PLASMA A CONTROLE IN SITU ET PROCEDE DE REGLAGE DE PARAMETRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/109252    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/006879
Date de publication : 27.09.2007 Date de dépôt international : 20.03.2007
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road, Gloucester, MA 01930 (US) (Tous Sauf US).
RENAU, Anthony [US/US]; (US) (US Seulement).
SINGH, Vikram [US/US]; (US) (US Seulement).
GUPTA, Atul [IN/US]; (US) (US Seulement).
MILLER, Timothy [US/US]; (US) (US Seulement).
AREVALO, Edwin [GT/US]; (US) (US Seulement).
PAPASOULIOTIS, George [US/US]; (US) (US Seulement).
JEON, Yong Bae [KR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : RENAU, Anthony; (US).
SINGH, Vikram; (US).
GUPTA, Atul; (US).
MILLER, Timothy; (US).
AREVALO, Edwin; (US).
PAPASOULIOTIS, George; (US).
JEON, Yong Bae; (US)
Mandataire : FABER, Scott R.; Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc., 35 Dory Road, Gloucester, MA 01930-2297 (US)
Données relatives à la priorité :
60/784,242 21.03.2006 US
11/687,822 19.03.2007 US
Titre (EN) METHOD OF PLASMA PROCESSING WITH IN-SITU MONITORING AND PROCESS PARAMETER TUNING
(FR) PROCEDE DE TRAITEMENT PLASMA A CONTROLE IN SITU ET PROCEDE DE REGLAGE DE PARAMETRES
Abrégé : front page image
(EN)A method of selecting plasma doping process parameters includes determining a recipe parameter database for achieving at least one plasma doping condition. The initial recipe parameters are determined from the recipe parameter database. In-situ measurements of at least one plasma doping condition are performed. The in-situ measurements of the at least one plasma doping condition are correlated to at least one plasma doping result. At least one recipe parameter is changed in response to the correlation so as to improve at least one plasma doping process performance metric.
(FR)L'invention concerne un procédé de sélection de paramètres de traitement par dopage plasma. Ce procédé consiste à déterminer une base de données de paramètres de réglage afin d'obtenir au moins une condition de dopage plasma. Les paramètres de réglage initiaux sont déterminés à partir de la base de données. Des mesures in situ relatives à au moins une condition de dopage plasma sont effectuées. Ces mesures sont ensuite corrélées avec au moins un résultat de dopage plasma. Au moins un paramètre de réglage est modifié en réponse à cette corrélation, de sorte à améliorer au moins une mesure de performance de traitement par dopage plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)