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1. (WO2007108757) REVETEMENT DE BORD SUR LIGNE DE DEPOT CONTINU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/108757    N° de la demande internationale :    PCT/SE2007/050124
Date de publication : 27.09.2007 Date de dépôt international : 02.03.2007
CIB :
C23C 14/56 (2006.01), C23C 14/02 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/32 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/35 (2006.01)
Déposants : SANDVIK INTELLECTUAL PROPERTY AB [SE/SE]; S-811 81 Sandviken (SE) (Tous Sauf US).
SCHUISKY, Mikael [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : SCHUISKY, Mikael; (SE)
Mandataire : MELIN, Linda; Sandvik Intellectual Property Ab, S-811 81 Sandviken (SE)
Données relatives à la priorité :
0600631-6 21.03.2006 SE
Titre (EN) EDGE COATING IN CONTINUOUS DEPOSITION LINE
(FR) REVETEMENT DE BORD SUR LIGNE DE DEPOT CONTINU
Abrégé : front page image
(EN)A continuous roll-to-roll deposition coating apparatus and a method to continuous coat an edge of a strip substrate are disclosed. The invention is aimed at accomplishing a hard and abrasion resistant coated metal strip with improved adhesion between a dense coating and the substrate.The deposition coating apparatus, comprises: a vacuum process chamber (114) including an etching zone (116) upstream of a deposition zone (118);at least one ion assisted etcher(120) in the etching zone; and at least one deposition apparatus (122) in the deposition zone,wherein the at least one deposition apparatus includes at least one target (124), wherein the strip substrate, in travelling through the vacuum process chamber, projects a first edge region (140) toward the at least one ion assisted etcher in the etching zone and projects the first edge region toward the target of the at least one deposition apparatus in the deposition zone, wherein the first edge region of the strip substrate includes at least a first angled surface (142) tapered from a first proximal position (144) toward a first distal position, the first proximal position closer to a centre region of the strip substrate than the first distal position, the first angled surface having a first surface normal (150), and wherein the target of the at least one deposition apparatus includes a target surface (126) having a target normal(128) and is angled with respect to the first angled surface so that the target normal intersects the first surface normal at an angle &agr;, where &agr; is greater than or equal to 90 degrees.
(FR)L'invention concerne un appareil de revêtement par dépôt continu rouleau sur rouleau et un procédé de revêtement en continu d'un bord de substrat en bande. L'invention vise à obtenir une bande métallique revêtue dure et résistant à l'abrasion présentant une adhérence améliorée entre un revêtement dense et le substrat. L'appareil de revêtement par dépôt comporte : une chambre (114) de process sous vide comprenant une zone (116) d'attaque chimique en amont d'une zone (118) de dépôt ; au moins un dispositif (120) d'attaque chimique assistée par ions dans la zone d'attaque chimique ; et au moins un appareil (122) de dépôt dans la zone de dépôt, ledit ou lesdits appareils de dépôt comprenant au moins une cible (124), le substrat en bande, tandis qu'il avance à travers la chambre de process sous vide, faisant saillir une première région (140) de bord vers ledit ou lesdits dispositifs d'attaque chimique assistée par ions dans la zone d'attaque chimique et faisant saillir la première région de bord vers la cible dudit ou desdits appareils de dépôt dans la zone de dépôt, la première région de bord du substrat en bande comprenant au moins une première surface inclinée (142) en biseau d'une première position proximale (144) vers une première position distale, ladite première position proximale étant plus proche d'une région centrale du substrat en bande que la première position distale, la première surface inclinée présentant une première normale (150) à la surface, et la cible dudit ou desdits appareils de dépôt comprenant une surface (126) de cible présentant une normale (128) à la cible et inclinée par rapport à la première surface inclinée de telle sorte que la normale à la cible croise la normale à la première surface selon un angle α, où α est supérieur ou égal à 90 degrés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)