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1. (WO2007108349) PROCEDE DE TRANSFERT/D'ALIGNEMENT DANS UNE MACHINE DE TRAITEMENT SOUS VIDE, MACHINE DE TRAITEMENT SOUS VIDE ET SUPPORT DE STOCKAGE INFORMATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/108349    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/054837
Date de publication : 27.09.2007 Date de dépôt international : 12.03.2007
CIB :
H01L 21/68 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku Tokyo 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
KONDOH, Keisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOIZUMI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KONDOH, Keisuke; (JP).
KOIZUMI, Hiroshi; (JP)
Mandataire : SUYAMA, Saichi; Kanda Higashiyama Bldg. 1, Kandata-cho 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 1010046 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-076190 20.03.2006 JP
Titre (EN) TRANSFER/ALIGNMENT METHOD IN VACUUM PROCESSING APPARATUS, VACUUM PROCESSING APPARATUS AND COMPUTER STORAGE MEDIUM
(FR) PROCEDE DE TRANSFERT/D'ALIGNEMENT DANS UNE MACHINE DE TRAITEMENT SOUS VIDE, MACHINE DE TRAITEMENT SOUS VIDE ET SUPPORT DE STOCKAGE INFORMATIQUE
(JA) 真空処理装置の搬送位置合わせ方法、真空処理装置及びコンピュータ記憶媒体
Abrégé : front page image
(EN)In a vacuum transfer chamber (10), a position detecting mechanism (33) for detecting the positions of semiconductor wafers (W) is arranged. The semiconductor wafers (W) arranged at prescribed positions in a load lock chamber (17) and vacuum processing chambers (11-16) are transferred to the position detecting mechanism (33) by a vacuum transfer mechanism (30) and the positions of the wafers are detected. Then, based on the detection results, aligning between the load lock chamber (17) and the vacuum processing chambers (11-16) is performed.
(FR)L'invention concerne une chambre de transfert sous vide (10) dans laquelle est installé un mécanisme de détection de position (33) permettant de détecter la position de plaquettes de semi-conducteurs (W). Les plaquettes de semi-conducteurs (W) placées à des positions prédéfinies dans une chambre de blocage (17) et dans des chambres de traitement sous vide (11-16)sont transférées sur le mécanisme de détection de position (33) par un mécanisme de transfert sous vide (30) et on détecte les positions des plaquettes. On procède ensuite à l'alignement entre la chambre de charge (17) et les chambres de traitement sous vide (11-16) en fonction des résultats de la détection des positions.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)