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1. (WO2007108291) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ET MATERIAU POUR LA FORMATION D'UN FILM DE PROTECTION CONTRE LA LUMIERE POUR ECRAN OU MATERIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE UTILISANT LA COMPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/108291    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/053889
Date de publication : 27.09.2007 Date de dépôt international : 01.03.2007
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (Tous Sauf US).
YOSHIMURA, Kousaku [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAKE, Kazuhito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKI, Hiroki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YOSHIMURA, Kousaku; (JP).
MIYAKE, Kazuhito; (JP).
SASAKI, Hiroki; (JP)
Mandataire : NAKAJIMA, Jun; TAIYO, NAKAJIMA & KATO Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg., 3-17, Shinjuku 4-chome Shinjuku-ku Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-081771 23.03.2006 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND MATERIAL FOR FORMATION OF LIGHT-SHIELD FILM FOR DISPLAY DEVICE OR PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL USING THE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ET MATERIAU POUR LA FORMATION D'UN FILM DE PROTECTION CONTRE LA LUMIERE POUR ECRAN OU MATERIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE UTILISANT LA COMPOSITION
(JA) 感光性組成物並びにそれを用いた表示装置用遮光膜形成用材料及び感光性転写材料
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive composition comprising a metal particle and/or a particle having a metal, an alkali-soluble resin, an addition-polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated double bond, and a photopolymerization initiator, wherein the alkali-soluble resin is a copolymer containing 30 to 90% by mass of a repeat unit B represented by the general formula (1), and having an acid value of 50 mgKOH/g or more and an I/O value of 0.45 to 0.65: (1) wherein R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; and R2 represents an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms which may have a ring structure or a branched structure. Also disclosed is a material for the formation of a light-shield film for a display device or a photosensitive transfer material using the composition.
(FR)La présente invention concerne une composition photosensible comprenant une particule de métal et/ou une particule contenant du métal, une résine alcalino-soluble, un monomère polymérisable par addition ayant une liaison double éthyléniquement insaturée et un initiateur de photopolymérisation, la résine alcalino-soluble étant un copolymère contenant de 30 à 90 % en masse d'un motif répétitif B représenté par la formule générale (1), et ayant un indice d'acidité supérieur ou égal à 50 mg de KOH/g et une valeur I/O de 0,45 à 0,65 : (1) où R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; et R2 représente un groupe alkyle possédant de 2 à 8 atomes de carbone pouvant avoir une structure cyclique ou une structure ramifiée. La présente invention concerne également un matériau pour la formation d'un film de protection contre la lumière pour un écran ou un matériau de transfert photosensible utilisant la composition.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)