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1. (WO2007108223) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE RÉSERVE ÉPAIS ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/108223    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/050663
Date de publication : 27.09.2007 Date de dépôt international : 18.01.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B05D 1/40 (2006.01), G03F 7/16 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
SHIMBORI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIMBORI, Hiroshi; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-070928 15.03.2006 JP
Titre (EN) METHOD FOR FORMING THICK RESIST FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE RÉSERVE ÉPAIS ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 厚膜レジスト膜の形成方法およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for forming a thick resist film having a thickness of 1-15&mgr;m on a supporting body. The method is provided with an accelerating step wherein the number of rotations is increased by rotating the supporting body while dropping or after dropping a resist composition on the supporting body, a speed reducing step for reducing the increased number of rotations obtained in the accelerating step, and a low speed rotation maintaining step for maintaining the reduced number of rotations obtained in the speed reducing step.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation d'un film de réserve épais ayant une épaisseur de 1 à 15&mgr;m sur un corps de support. Le procédé comprend une étape d'accélération au cours de laquelle le nombre de rotations est augmenté par la rotation du corps de support lors du dépôt et après le dépôt d'une composition de réserve sur le corps de support, et une étape de réduction de vitesse pour réduire le nombre accru de rotations obtenu à l'étape d'accélération, et une rotation à faible vitesse pour maintenir le nombre réduit de rotations obtenu à l'étape de réduction de vitesse.
(JA) 支持体上に膜厚1~15μmの厚膜レジスト膜を形成する方法であって、 上記支持体上にレジスト組成物を滴下しながら、または滴下した後、上記支持体を回転させ、その回転数を上げる加速工程と、上記加速工程で上げた回転数を下げる減速工程と、上記減速工程で下げた回転数を維持する低速回転維持工程とを有する厚膜レジスト膜の形成方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)