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1. (WO2007106311) COMPOSITIONS À FORT DÉPÔT ET LEURS UTILISATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/106311    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/004684
Date de publication : 20.09.2007 Date de dépôt international : 21.02.2007
CIB :
A61K 8/02 (2006.01)
Déposants : JOHNSON & JOHNSON CONSUMER, COMPANIES, INC. [US/US]; Grandview Road, Skillman, NJ 08558 (US) (Tous Sauf US).
LIBRIZZI, Joseph [US/US]; (US) (US Seulement).
COSSA, Anthony J. [US/US]; (US) (US Seulement).
WALTERS, Russel [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LIBRIZZI, Joseph; (US).
COSSA, Anthony J.; (US).
WALTERS, Russel; (US)
Mandataire : JOHNSON, Philip S.; One Johnson & Johnson Plaza, New Brunswick, NJ 08933 (US)
Données relatives à la priorité :
11/377,057 16.03.2006 US
Titre (EN) HIGH-DEPOSITION COMPOSITIONS AND USES THEREOF
(FR) COMPOSITIONS À FORT DÉPÔT ET LEURS UTILISATIONS
Abrégé : front page image
(EN)Provided are compositions comprising actives associated with cationically-charged delivery systems, which compositions tend to exhibit relatively high-deposition of the actives onto the skin, nails, vagina and/or hair upon application thereto, and methods of use thereof.
(FR)L'invention porte sur des compositions comprenant des substances actives associées à un système de délivrance à charge cationique. Lesdites compositions tendent à provoquer un dépôt des substances actives sur la peau, les ongles, le vagin et/ou les cheveux lors de leur application. L'invention porte également sur leurs méthodes d'd'utilisation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)