WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007105567) FILTRE COLORE ET MASQUE PHOTOGRAPHIQUE UTILISE POUR FABRIQUER CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/105567    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/054457
Date de publication : 20.09.2007 Date de dépôt international : 07.03.2007
CIB :
G02B 5/20 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP) (Tous Sauf US).
KAMADA, Atsuko [JP/JP]; (US Seulement).
KAWAMOTO, Ryuji [JP/JP]; (US Seulement).
SHIRAISHI, Junichi [JP/JP]; (US Seulement)
Inventeurs : KAMADA, Atsuko; .
KAWAMOTO, Ryuji; .
SHIRAISHI, Junichi;
Mandataire : SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE, 1-12-9, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-065700 10.03.2006 JP
Titre (EN) COLOR FILTER AND PHOTOMASK USED FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FILTRE COLORE ET MASQUE PHOTOGRAPHIQUE UTILISE POUR FABRIQUER CELUI-CI
(JA) カラーフィルタおよびその製造に用いるフォトマスク
Abrégé : front page image
(EN)A color filter is characterized in that the color filter is provided with a first photo spacer and a second photo spacer having a film thickness smaller than that of the first photo spacer, and that the second photo spacer has a cross section shape wherein the longitudinal width is longer than the lateral width. The photo spacer of the color filter is provided with a first opening pattern for forming the first photo spacer, and a second opening pattern for forming the second photo spacer having the thickness smaller than that of the first photo spacer. The second opening pattern is manufactured by using a photomask having a shape wherein a lateral width is within a range of 2.0μm-10.0μm, and a ratio of the lateral width to the longitudinal width is 1:1.25 or more.
(FR)La présente invention concerne un filtre coloré qui se caractérise en ce que celui-ci est muni d'un premier photoécarteur et d'un second photoécarteur ayant une épaisseur de film inférieure à celle du premier photoécarteur, et en ce que le second photoécarteur a une forme en section dans laquelle la largeur longitudinale est plus longue que la largeur latérale. Le photoécarteur du filtre coloré est muni d'un premier motif d'ouverture pour former le premier photoécarteur et d'un second motif d'ouverture pour former le second photoécarteur ayant une épaisseur inférieure à celle du premier photoécarteur. Le second motif d'ouverture est fabriqué en utilisant un masque photographique ayant une forme dans laquelle la largeur latérale varie entre 2.0 &mgr;m et 10.0 &mgr;m, et un rapport entre la largeur latérale et la largeur longitudinale est de 1:1,25 ou plus.
(JA) 第1のフォトスペーサと、この第1のフォトスペーサよりも膜厚の小さい第2のフォトスペーサとを有し、前記第2のフォトスペーサは、その横幅に対して縦幅の長さが長い断面形状を有することを特徴とするカラーフィルタ。このカラーフィルタのフォトスペーサは、第1のフォトスペーサ形成用の第1の開口パターンと、この第1のフォトスペーサよりも膜厚の小さい第2のフォトスペーサ形成用の第2の開口パターンとを有し、前記第2の開口パターンは、横幅が2.0μm~10.0μmの範囲内で、横幅:縦幅の比が1:1.25以上である形状を有するフォトマスクを用いて製造される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)