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1. (WO2007105407) PROCEDE DE FABRICATION D'UNE MEMBRANE EN ZEOLITHE DE TYPE DDR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/105407    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/052785
Date de publication : 20.09.2007 Date de dépôt international : 15.02.2007
CIB :
C01B 39/04 (2006.01), B01D 69/04 (2006.01), B01D 69/06 (2006.01), B01D 69/12 (2006.01), B01D 71/02 (2006.01)
Déposants : NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530 (JP) (Tous Sauf US).
YAJIMA, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAYAMA, Kunio [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAJIMA, Kenji; (JP).
NAKAYAMA, Kunio; (JP)
Mandataire : WATANABE, Kazuhira; 3rd Fl., No.8 Kikuboshi Tower Building 20-18, Asakusabashi 3-chome Taito-ku, Tokyo 111-0053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-069366 14.03.2006 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING DDR TYPE ZEOLITE MEMBRANE
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UNE MEMBRANE EN ZEOLITHE DE TYPE DDR
(JA) DDR型ゼオライト膜の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a DDR type zeolite membrane, comprising immersing a porous base material in a raw material solution containing 1-adamantanamine, silica and water and carrying out a hydrothermal synthesis of DDR type zeolite in the presence of DDR type zeolite seed crystal (seed crystal) to thereby form a DDR type zeolite membrane on the surface of the porous base material, wherein the 1-adamantanamine to silica content ratio (1-adamantanamine/silica) is in the range of 0.002 to 0.4 in terms of molar ratio while the water to silica content ratio (water/silica) is in the range of 10 to 500 in terms of molar ratio, and wherein the seed crystal has an average particle diameter of 300 nm or less. Thus, there is provided a process for producing a DDR type zeolite membrane in which a DDR type zeolite membrane being uniform in membrane thickness, being thin and exhibiting high gas permeation rate can be stably produced.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une membrane en zéolithe de type DDR, comprenant les étapes consistant à immerger un matériau de base poreux dans une solution de matières premières contenant de la 1-adamantanamine, de la silice et de l'eau, et réaliser une synthèse hydrothermale d'une zéolithe de type DDR en présence d'un germe cristallin de zéolithe de type DDR (germe cristallin) afin de former une membrane en zéolithe de type DDR à la surface du matériau de base poreux, le rapport entre la 1-adamantanamine et la silice (1-adamantanamine/silice) étant compris entre 0,002 et 0,4 en terme de rapport molaire, alors que le rapport entre l'eau et la silice (eau/silice) est compris entre 10 et 500 en terme de rapport molaire, et le germe cristallin ayant un diamètre moyen de particule inférieur ou égal à 300 nm. L'invention concerne donc un procédé de fabrication d'une membrane en zéolithe de type DDR permettant d'obtenir une membrane en zéolithe de type DDR d'une épaisseur uniforme, fine et présentant un taux élevé de perméation des gaz.
(JA) 1-アダマンタンアミン、シリカ及び水を含有する原料溶液に多孔質基体を浸漬し、DDR型ゼオライト種結晶(種結晶)の存在下、DDR型ゼオライトを水熱合成して多孔質基体表面にDDR型ゼオライト膜を形成するDDR型ゼオライト膜の製造方法であって、1-アダマンタンアミンとシリカとの含有割合(1-アダマンタンアミン/シリカ)をモル比率で0.002~0.4、水とシリカとの含有割合(水/シリカ)をモル比率で10~500とし、種結晶の平均粒子径を300nm以下とするDDR型ゼオライト膜の製造方法。膜厚が均一で薄く、ガス透過量の多いDDR型ゼオライト膜を安定的に製造することが可能なDDR型ゼオライト膜の製造方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)