(EN) The present invention relates an electron safe mark, in particular broken and never retrievable electron soft mark. The mark includes an insulating film layer and two conducting layers attached on the two surfaces of the insulating film, the conducting layer has circuit, and the insulating film layer and the conducting layers form the mark base layer, a rigid insulating material layer is attached the base layer, the broken moulage processed in advance is on the rigid insulating material layer, and there is an angle between the broken moulage and the circuit.The problem due to folding the decoded mark to produce little fillet so as to break off the mark difficultly is resolved by the said construction,so the circuit of the mark is destroyed, the retrievement of the mark is avoided.
(FR) La présente invention concerne un marquage électronique sûr, notamment le marquage électronique préalable brisé et définitivement irrécupérable. Le marquage comprend une couche de film isolant et deux couches conductrices fixées sur les deux surfaces du film isolant, la couche conductrice comporte un circuit et la couche de film isolant et les couches conductrices forment la couche de base du marquage, une couche de matière isolante rigide étant fixée sur la couche de base, le moulage brisé traité au préalable se trouve sur la couche de matière isolante rigide et un angle est formé entre le moulage brisé et le circuit. Le problème dû au pliage du marquage décodé pour produire une bande mince de manière à éliminer la difficulté du marquage est résolu par ladite construction, ainsi le circuit du marquage est détruit et le marquage ne peut être récupéré.