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1. (WO2007104063) TAMPON A POLIR COMPOSITE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/104063    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/063739
Date de publication : 13.09.2007 Date de dépôt international : 09.03.2007
CIB :
B24D 13/14 (2006.01)
Déposants : RIMPAD TECH LTD. [US/US]; PO Box 296, Austin, Texas 78767 (US) (Tous Sauf US).
PRESTON, Spencer [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PRESTON, Spencer; (US)
Mandataire : ZEMAN, Laura; Snell & Wilmer L.L.P., One Arizona Center, 400 E. Van Buren Street, Phoenix, Arizona 85004-2202 (US)
Données relatives à la priorité :
60/780,773 09.03.2006 US
Titre (EN) COMPOSITE POLISHING PAD
(FR) TAMPON A POLIR COMPOSITE
Abrégé : front page image
(EN)A polishing pad having an optically clear bottom layer and a closed cell top layer where the interface between the top and bottom layers is only a urethane to urethane interface. Grooves may be machined into the top layer or through the top layer and into the bottom layer.
(FR)La présente invention concerne un tampon à polir à couche inférieure transparente et une couche supérieure à cellule fermée où l'interface entre les couches supérieures et inférieures est seulement une interface uréthane-uréthane. Des rainures pourront être façonnées dans la couche supérieure ou à travers la couche supérieure et dans la couche inférieure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)