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1. (WO2007102979) SOURCE DE RAYONNEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/102979    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/004229
Date de publication : 13.09.2007 Date de dépôt international : 16.02.2007
CIB :
H01J 35/08 (2006.01)
Déposants : EATON, Mark, F. [US/US]; (US).
KARPOV, Leonid, D. [RU/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : EATON, Mark, F.; (US).
KARPOV, Leonid, D.; (US)
Représentant
commun :
EATON, Mark, F.; C/o Stellar Micro Devices, 2020 Centimeter Circle, Austin, TX 78758 (US)
Données relatives à la priorité :
11/355,692 16.02.2006 US
Titre (EN) RADIATION SOURCE
(FR) SOURCE DE RAYONNEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A radiation source which can emit X-ray flux, UV-C flux and other forms of radiation uses electron beam current from a cathode array formed on the window through which the radiation will exit the source. The source can be made in formats which are compact or flat compared with prior art radiation sources. X-ray, UV-C and other radiative flux produced by the source can be used for such purposes as radiation imaging, sterilization, decontamination of biohazards, UV curing or photolithography.
(FR)La présente invention concerne une source de rayonnement pouvant émettre un flux de rayons X, un flux de rayons UV-C et d'autres formes de rayonnement et utilisant un courant de faisceau d'électrons produit par un réseau de cathodes formé sur la fenêtre par laquelle le rayonnement sort de la source. La source peut être conçue dans des formats compacts ou plats comparée aux sources de rayonnement de l'état actuel de la technique. Les rayons X, UV-C et autres flux de rayonnement produits par la source peuvent être utilisés dans des applications telles que l'imagerie par rayonnement, la stérilisation, la décontamination de matières infectieuses, le séchage UV ou la photolithographie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)