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1. (WO2007102322) MATIÈRE DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/102322    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/053380
Date de publication : 13.09.2007 Date de dépôt international : 23.02.2007
CIB :
G03F 7/028 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 26-2, Nishishinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630512 (JP) (Tous Sauf US).
MATSUMURA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKUZUMI, Shunichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MATSUMURA, Toshiyuki; (JP).
FUKUZUMI, Shunichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-059182 06.03.2006 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL
(FR) MATIÈRE DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性平版印刷版材料
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive lithographic printing plate material having a support and, superimposed thereon, a photosensitive layer containing (A) photopolymerization initiator, (B) polymerizable compound having an ethylenic double bond, (C) sensitizing dye and (D) polymer binder, characterized in that the sensitizing dye (C) contains any of compounds of the following general formula (1). The photosensitive lithographic printing plate material is suitable for exposure using laser beams of 350 to 450 nm emission wavelength, exhibiting high sensitivity and excels in storage stability.
(FR)Matière de plaque d'impression lithographique photosensible ayant un support et, superposée sur celui-ci, une couche photosensible contenant (A) un initiateur de photopolymérisation, (B) un composé polymérisable ayant une double liaison éthylénique, (C) un colorant sensibilisateur et (D) un liant polymérique, caractérisée en ce que le colorant sensibilisateur (C) contient l'un quelconque des composés répondant à la formule générale (1) suivante. La matière de plaque d'impression lithographique photosensible convient pour une exposition utilisant des faisceaux lasers ayant une longueur d'onde d'émission de 350 à 450 nm, présente une sensibilité élevée et excelle en termes de stabilité au stockage.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)