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1. (WO2007101774) OBJECTIF DE PROJECTION POUR UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/101774    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/051497
Date de publication : 13.09.2007 Date de dépôt international : 16.02.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
HELLWEG, Dirk [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FELDMANN, Heiko [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HELLWEG, Dirk; (DE).
FELDMANN, Heiko; (DE)
Mandataire : FRANK, Hartmut; Reichspräsidentenstr. 21-25, 45470 Mülheim (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 011 098.6 08.03.2006 DE
Titre (DE) PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION POUR UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht, wobei das Projektionsobjektiv (108) ein bildebenenseitig letztes optisches Element (113) mit einer Lichteintrittsfläche und einer Lichtaustrittsfläche aufweist und für einen Immersionsbetrieb ausgelegt ist, in welchem in einem Bereich zwischen der Lichtaustrittsfläche und der Bildebene (IP) eine Immersionsflussigkeit (114) angeordnet ist, und wobei wenigstens eine zwischen der Lichteintrittsfläche des bildebenenseitig letzten optischen Elements (113) und der Immersionsflussigkeit (114) befindliche Grenzfläche wenigstens bereichsweise eine Mikrostrukturierung (117, 217, 313a, 413a, 515a, 615a) aufweist.
(EN)The invention relates to a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, for imaging a mask that can be positioned in an object plane onto a light-sensitive layer that can be positioned in an image plane, wherein the projection objective (108) has a last optical element (113) on the image plane side having a light entrance surface and a light exit surface and is designed for immersion operation, in which an immersion liquid (114) is arranged in a region between the light exit surface and the image plane (IP), and wherein at least one interface situated between the light entrance surface of the last optical element (113) on the image plane side and the immersion liquid (114) has a microstructuring (117, 217, 313a, 413a, 515a, 615a) at least in regions.
(FR)L'invention concerne un objectif de projection pour une installation d'exposition par projection microlithographique, pour la réalisation d'un masque positionnable dans un plan d'objet sur une couche photosensible positionnable dans un plan d'image, l'objectif de projection (108) comportant un élément optique (113) terminal du côté du plan d'image avec une surface d'entrée de lumière et une surface de sortie de lumière et convenant à un fonctionnement en immersion, dans lequel est introduit un liquide d'immersion (114) dans une zone située entre la surface de sortie de lumière et le plan d'image (IP), et au moins une surface de limite située entre la surface d'entrée de lumière de l'élément optique (113) terminal du côté du plan d'image et le liquide d'immersion (114) comportant au moins partiellement une microstructure (117, 217, 313a, 413a, 515a, 615a).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)