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1. (WO2007100936) SUBSTRAT DE NETTOYAGE FAIBLE DENSITÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/100936    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/060701
Date de publication : 07.09.2007 Date de dépôt international : 18.01.2007
CIB :
B32B 3/26 (2006.01)
Déposants : THE CLOROX COMPANY [US/US]; 1221 Broadway, Oakland, CA 94612 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : OUELLETTE, William; (US).
DANI, Nikhil; (US).
SUK, Richard; (US)
Mandataire : PETERSON, David; THE CLOROX COMPANY, P.o. Box 24305, Oakland, CA 94623-1305 (US)
Données relatives à la priorité :
11/361,105 24.02.2006 US
Titre (EN) LOW-DENSITY CLEANING SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT DE NETTOYAGE FAIBLE DENSITÉ
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is directed to a low-density substrate, which has an optimized pore volume distribution. The optimized pore volume distribution allows the substrate to hold at least 50 percent of its cumulative volume within pores with a radius size of about 110 to 250 microns. The optimized pore volume distribution can also be characterized by having a dry fibrous web that absorbs less than 20 percent of the cumulative volume of the fibrous web at a pore radius of 75 microns. The optimized pore volume distribution of the substrate enables it to controllably release a fluid composition effectively onto a surface. The basis weight of the substrate is about 80 to 20 gsm and the density of the substrate is below 0.1 g/cc. The substrate may be a pre-loaded wipe, which is either moistened by a consumer prior to use or moistened prior to packaging. The composition loaded onto the substrate may contain dry and/or liquid compositions preferably for cleaning hard or soft surfaces.
(FR)La présente invention concerne un substrat faible densité présentant une porosité de distribution optimisée. La distribution optimisée de la porosité permet au substrat de d'avoir au moins 50 pourcent de son volume cumulatif dans des pores ayant un rayon compris environ entre 110 et 250 microns. La distribution optimisée du volume poreux peut également être caractérisée par une bande fibreuse sèche qui absorbe moins de 20 pourcent du volume cumulatif de la bande fibreuse pour un rayon de pore de 75 microns. La distribution optimisée du volume poreux du substrat permet la libération contrôlée d'une composition fluidique efficacement sur une surface. Le poids de base du substrat est d'environ 80 à 20 gsm et la densité du substrat est inférieure à 0.1 g/cc. Le substrat peut être une lavette pré-chargée qui est soit humidifiée par un consommateur avant son utilisation ou humidifiée avant son conditionnement. La composition chargée sur le substrat peut contenir des compositions sèches et/ou liquides, de préférence, pour le nettoyage de surfaces dures ou au toucher doux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)