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1. (WO2007100884) MODIFICATION DE MATERIAUX POLYMERIQUES POUR UNE ADHESION ACCRUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/100884    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/005241
Date de publication : 07.09.2007 Date de dépôt international : 28.02.2007
CIB :
B32B 7/12 (2006.01), B32B 27/20 (2006.01), C08K 3/36 (2006.01), C08K 3/22 (2006.01)
Déposants : E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street, Wilmington, Delaware 19898 (US) (Tous Sauf US).
CHOU, Richard, T. [US/US]; (US) (US Seulement).
KIM, Kye, Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : CHOU, Richard, T.; (US).
KIM, Kye, Hyun; (KR)
Mandataire : KULLER, Mark, D.; E.I. du Pont de Nemours and Company, Legal Patent Records Center, 4417 Lancaster Pike, Wilmington, Delaware 19805 (US)
Données relatives à la priorité :
60/777,349 28.02.2006 US
Titre (EN) MODIFICATION OF POLYMERIC MATERIALS FOR INCREASED ADHESION
(FR) MODIFICATION DE MATERIAUX POLYMERIQUES POUR UNE ADHESION ACCRUE
Abrégé : front page image
(EN)A method of improving the adhesion of primers and adhesives to the surface of a polymeric material is provided. In this method, the adhesion is improved by modifying the polymeric material with a filler. Preferably, the filler comprises hollow microspheres or nanoparticles. Silica is a preferred filler.
(FR)L'invention concerne un procédé d'amélioration de l'adhésion d'amorces et d'adhésifs à la surface d'un matériau polymérique. Selon ce procédé, l'adhésion est améliorée en modifiant le matériau polymérique avec des charges. Les charges comprennent de préférence des microsphères creuses ou des nanoparticules. La silice est une charge préférée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)