WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007100144) APPAREIL DE MESURE, APPAREIL D'EXPOSITION L'UTILISANT ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/100144    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/054373
Date de publication : 07.09.2007 Date de dépôt international : 28.02.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.08.2007    
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G01M 11/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP) (Tous Sauf US).
KATO, Seima [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OUCHI, Chidane [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KATO, Seima; (JP).
OUCHI, Chidane; (JP)
Mandataire : FUJIMOTO, Ryosuke; FUJIMOTO PATENT OFFICE, Yaesu Nagoya Building 6th Floor, 2-10, Yaesu 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040028 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-051426 28.02.2006 JP
Titre (EN) MEASUREMENT APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS HAVING THE SAME, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE MESURE, APPAREIL D'EXPOSITION L'UTILISANT ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A measurement apparatus includes a first mask that is arranged on an object plane of a target optical system, and has a window that transmits measurement light, a second mask that has a reflection surface for reducing coherence of the measurement light, and a diffraction grating configured to split the measurement light that has been reflected on the second mask, has passed the first mask and the target optical system, wherein a distance Lg between the diffraction grating and an image plane of the target optical system satisfies Lg = m Pg / where Pg is a grating pitch of the diffraction grating, is a wavelength of the measurement light, and m is an integer except for 0.
(FR)La présente invention concerne un appareil de mesure comprenant un premier masque disposé sur un plan d'objet d'un système optique cible et doté d'une fenêtre qui transmet une lumière de mesure, un second masque qui comporte une surface de réflexion pour réduire une cohérence de la lumière de mesure et un réseau de diffraction configuré pour diviser la lumière de mesure qui a été réfléchie sur le second masque et a traversé le premier masque et le système optique cible. Une distance Lg entre le réseau de diffraction et un plan d'image du système optique cible satisfait la relation Lg = m Pg / où Pg est un pas réseau du réseau de diffraction, Lg est une longueur d'onde de la lumière de mesure et m est un entier non nul.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)