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1. (WO2007099896) procede pour detacher un groupe protecteur d'un acide nucleique
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/099896    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/053490
Date de publication : 07.09.2007 Date de dépôt international : 26.02.2007
CIB :
C07H 21/02 (2006.01), C07H 21/04 (2006.01)
Déposants : NIPPON SHINYAKU CO., LTD. [JP/JP]; 14, Kisshoin Nishinosho Monguchicho, Minami-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6018550 (JP) (Tous Sauf US).
SHIBA, Yoshinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIBA, Yoshinobu; (JP)
Mandataire : SHIMIZU, Naoto; Intellectual Property Department, NIPPON SHINYAKU CO., LTD., 14, Kisshoin Nishinosho Monguchicho, Minami-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6018550 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-050381 27.02.2006 JP
Titre (EN) METHOD FOR DETACHING PROTECTING GROUP ON NUCLEIC ACID
(FR) procede pour detacher un groupe protecteur d'un acide nucleique
(JA) 核酸保護基の脱離方法
Abrégé : front page image
(EN)The object is to provide a method for detaching a 2-cyanoethoxymethoxy (CEM) group substituted on a position-2 hydroxyl group in a ribose with good reproducibility and high efficiency. Disclosed is a process for detaching a protecting group located on a position-2 hydroxyl group in each of riboses in an oligonucleic acid derivative represented by the general formula (10) by reacting the derivative with TBAF, wherein a sulfoxide solvent, an amide solvent or a mixture thereof is used as a reaction solvent, thereby producing an oligonucleic acid derivative represented by the general formula (11).
(FR)L'invention a pour objet un procédé pour détacher un groupe 2-cyano-éthoxy-méthoxy (CEM) substitué dans un groupe hydroxyle en position 2 d'une ribose à bonne reproductibilité et haute efficacité. Pour cela, l'invention divulgue un processus pour détacher un groupe protecteur situé au niveau d'un groupe hydroxyle en position 2 dans chacune des riboses d'un dérivé d'acide oligonucléique représenté par la formule générale (10) par la réaction du dérivé avec le TBAF, un solvant sulfoxyde, un solvant amide ou un mélange des deux étant utilisé comme solvant de réaction, de manière à produire un dérivé d'acide oligonucléique représenté par la formule générale (11).
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)