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1. (WO2007098770) DERIVES ACIDE (ARYL/ALKYL)VINYLSULFONE-HYALURONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/098770    N° de la demande internationale :    PCT/DK2007/000108
Date de publication : 07.09.2007 Date de dépôt international : 02.03.2007
CIB :
C08B 37/08 (2006.01), A61K 31/728 (2006.01), A61K 8/73 (2006.01), A61K 47/36 (2006.01)
Déposants : NOVOZYMES BIOPOLYMER A/S [DK/DK]; Krogshoejvej 36, DK-2880 Bagsvaerd (DK) (Tous Sauf US).
EENSCHOOTEN, Corinne [FR/DK]; (DK) (US Seulement).
CHRISTENSEN, Morten, Würtz [DK/DK]; (DK) (US Seulement)
Inventeurs : EENSCHOOTEN, Corinne; (DK).
CHRISTENSEN, Morten, Würtz; (DK)
Mandataire : NOVOZYMES A/S; Krogshoejvej 36, DK-2880 Bagsvaerd (DK)
Données relatives à la priorité :
PA 2006 00305 02.03.2006 DK
PA 2006 00312 03.03.2006 DK
Titre (EN) ARYL/ALKYL VINYL SULFONE HYALURONIC ACID DERIVATIVES
(FR) DERIVES ACIDE (ARYL/ALKYL)VINYLSULFONE-HYALURONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A hyaluronic acid derivative, and methods of producing and using said derivative, the derivative comprising n repeating units and having the general structural formula (I), wherein, in at least one repeating unit, one or more of R1, R2, R3, R4 comprises an etherbound aryl/alkyl sulfone having the general structural fomula (II), wherein R comprises an alkyl- or aryl-group, and otherwise R1, R2, R3, R4 are hydroxyl groups, OH.
(FR)L'invention concerne un dérivé de l'acide hyaluronique ainsi que des procédés de production et d'utilisation dudit dérivé. Le dérivé comprend n motifs répétés et il répond à la formule structurelle générale (I) dans laquelle, dans l'un au moins des motifs répétés, un ou plusieurs radicaux R1, R2, R3, R4 comprennent un (aryl/alkyl)sulfone lié à un éther et répondant à la formule structurelle générale (II), dans laquelle R comprend un groupe alkyle ou aryle ; et R1, R2, R3, R4 sont autrement des groupes OH (hydroxyle).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)