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1. (WO2007098290) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENTS DE CONTRÔLE POUR DES ENSEMBLES DE CARTES DE CONTRÔLE AU MOYEN D'UN SUBSTRAT RÉUTILISABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/098290    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/005144
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 27.02.2007
CIB :
G01R 3/00 (2006.01), H05K 3/20 (2006.01), G01R 1/067 (2006.01)
Déposants : SV PROBE PTE LTD. [SG/SG]; 29 Woodlands Industrial Park E1, #04-01 North Tech, Lobby 1, Singapore 757716 (SG) (Tous Sauf US).
HEINEMANN, Keith [US/US]; (US) (US Seulement).
LING, Jamin [US/US]; (US) (US Seulement).
MCCULLOUGH, Richard [US/US]; (US) (US Seulement).
MCHUGH, Brian [US/US]; (US) (US Seulement).
WAHL, Jordan [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HEINEMANN, Keith; (US).
LING, Jamin; (US).
MCCULLOUGH, Richard; (US).
MCHUGH, Brian; (US).
WAHL, Jordan; (US)
Mandataire : BECKER, Edward, A.; Hickman Palermo Truong & Becker LLP, 2055 Gateway Place, Suite 550, San Jose, CA 95110 (US)
Données relatives à la priorité :
60/777,186 27.02.2006 US
11/711,578 26.02.2007 US
Titre (EN) APPROACH FOR FABRICATING PROBE ELEMENTS FOR PROBE CARD ASSEMBLIES USING A REUSABLE SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENTS DE CONTRÔLE POUR DES ENSEMBLES DE CARTES DE CONTRÔLE AU MOYEN D'UN SUBSTRAT RÉUTILISABLE
Abrégé : front page image
(EN)An approach is provided for fabricating probe elements for probe card assemblies. Embodiments of the invention include using a reusable substrate, a reusable substrate with layered probe elements and a reusable substrate with a passive layer made of a material that does not adhere well to probe elements formed thereon. Examples of probe elements include, without limitation, a cantilever probe element, a vertically-oriented probe element, and portions of probe elements, e.g., a beam element of a cantilever probe element. Probe elements, or portions of probe elements, may be formed using any of a number of electroforming or plating processes such as, for example, plating using masking techniques, e.g., using lithographic techniques such as photolithography, stereolithography, X-ray lithography, etc.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'éléments de contrôle pour des ensembles de cartes de contrôle. Des modes de réalisation de l'invention comprennent un substrat réutilisable, un substrat réutilisable avec des éléments de contrôle stratifiés et un substrat réutilisable sur lequel est formée une couche passive constituée d'un matériau qui n'adhère pas bien aux éléments de contrôle. Des exemples d'éléments de contrôle sont, sans limitation, un élément de contrôle en porte-à-faux, un élément de contrôle orienté verticalement, et des parties d'éléments de contrôle, par ex. un élément en faisceau d'un élément de contrôle en porte-à-faux. Des éléments de contrôle, ou des parties d'éléments de contrôle peuvent être réalisés au moyen d'un certain nombre de processus d'électroformage ou de placage, comme par exemple un placage utilisant des techniques de masquage, par ex., au moyen de techniques lithographiques comme la photolithographie, la stéréolithographie, la lithographie aux rayons X, entre autres.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)