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1. (WO2007098232) SYSTEME DE DEPLOIEMENT DE GAINE FRACTIONNEE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/098232    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/004563
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 20.02.2007
CIB :
A61F 2/04 (2013.01)
Déposants : MED INSTITUTE, INC. [US/US]; 1400 Cumberland Avenue, West Lafayette, IN 47906 (US) (Tous Sauf US).
ROEDER, Blayne, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
LEEWOOD, Alan, R. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ROEDER, Blayne, A.; (US).
LEEWOOD, Alan, R.; (US)
Mandataire : LEFFEL, Kevin, L.; P.O. Box 2269, Bloomington, IN 47402-2269 (US)
Données relatives à la priorité :
60/775,187 21.02.2006 US
Titre (EN) SPLIT SHEATH DEPLOYMENT SYSTEM
(FR) SYSTEME DE DEPLOIEMENT DE GAINE FRACTIONNEE
Abrégé : front page image
(EN)A device for delivering and deploying a radially expandable prosthesis is disclosed and comprises a proximal prosthesis release mechanism (24) having a first resistance and a distal prosthesis release mechanism (22) having a second resistance. The device further comprises an actuation mechanism (27) for actuating the distal and proximal release mechanisms in a single coordinated movement and a biasing compensator (60) for regulating the relationship between the first resistance and the second resistance. Additional aspects of the invention include devices and methods for delivering and deploying a radially expandable prosthesis.
(FR)L'invention concerne un dispositif destiné à mettre en place et à déployer une prothèse expansible radialement, ledit dispositif comportant un mécanisme proximal de libération de prothèse présentant une première résistance et un mécanisme distal de libération de prothèse présentant une deuxième résistance. Le dispositif comporte en outre un mécanisme d'actionnement destiné à actionner les mécanismes distal et proximal de libération en un seul mouvement coordonné et un compensateur de sollicitation destiné à réguler la relation entre le première résistance et la deuxième résistance. Des aspects supplémentaires de l'invention comprennent des dispositifs et des procédés de mise en place et de déploiement d'une prothèse expansible radialement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)