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1. (WO2007097942) PROCÉDÉ DE RETRAIT D'UN REVÊTEMENT D'UN SUBSTRAT AU MOYEN D'UN FAISCEAU LASER DÉFOCALISÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/097942    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/003735
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 13.02.2007
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota, Minnesota 55133-3427 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : HOWARD, Patrick C.,; (US).
MITCHELL, Charles; (US).
NGIN, Sywong; (US)
Mandataire : SHENK, David J.,; 3M Center, Office of Intellectual Property Counsel Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Données relatives à la priorité :
11/276,239 20.02.2006 US
Titre (EN) METHOD FOR REMOVING A COATING FROM A SUBSTRATE USING A DEFOCUSED LASER BEAM
(FR) PROCÉDÉ DE RETRAIT D'UN REVÊTEMENT D'UN SUBSTRAT AU MOYEN D'UN FAISCEAU LASER DÉFOCALISÉ
Abrégé : front page image
(EN)A defocused laser beam provides an efficient mechanism to remove a coating from a substrate without requiring additional cleaning steps. A defocused laser beam is applied to the coating so that a focal point of the laser beam does not spatially coincide with the coating. A target portion of the coating is removed by applying sufficient power from the laser beam to ablate the material of the target portion and expose a portion of the substrate underlying the target portion.
(FR)L'invention concerne un faisceau laser défocalisé représentant un mécanisme efficace pour retirer un revêtement d'un substrat sans nécessiter d'étapes de nettoyage supplémentaires. Le faisceau laser défocalisé est appliqué au revêtement de telle sorte qu'un point focal du faisceau laser de coïncide pas spatialement avec le revêtement. Une partie cible du revêtement est retirée en appliquant une puissance suffisante à partir du faisceau laser pour ablater le matériau de la partie cible et exposer une partie du substrat sous-jacent à la partie cible.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)