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1. (WO2007097790) Surfaces antimicrobiennes activées par ultraviolets
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/097790    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/043295
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 06.11.2006
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/00 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : CHAMELEON SCIENTIFIC CORPORATION [US/US]; 13355 10th Avenue North, Suite 108, Plymouth, MN 55441 (US) (Tous Sauf US).
MCGRATH, Terrence, S. [US/US]; (US) (US Seulement).
SEWELL, Deidre [US/US]; (US) (US Seulement).
STOREY, Daniel, M. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MCGRATH, Terrence, S.; (US).
SEWELL, Deidre; (US).
STOREY, Daniel, M.; (US)
Mandataire : KITCHELL, Barbara, S.; Chameleon Scientific Corporation, 13355 10th Avenue North, Suite 108, Plymouth, MN 55441 (US)
Données relatives à la priorité :
60/776,537 25.02.2006 US
11/542,531 03.10.2006 US
Titre (EN) ULTRAVIOLET ACTIVATED ANTIMICROBIAL SURFACES
(FR) Surfaces antimicrobiennes activées par ultraviolets
Abrégé : front page image
(EN)The invention is directed to an ion plasma deposition (IPD) method adapted to coat polymer surfaces with highly adherent antimicrobial films. A controlled ion plasma deposition (IPD) process is used to coat a metal or polymer with a selected metal/metal oxide. Exposing the coated surface to ultraviolet light significantly improves the antimicrobial properties of the deposited coatings.
(FR)L'invention concerne un procédé de dépôt d'ions par plasma (IPD) adapté pour revêtir des surfaces polymères de films antimicrobiens à haute adhérence. On utilise une opération contrôlée de dépôt d'ions par plasma (IPD) pour revêtir un métal ou un polymère d'un métal ou d'un oxyde métallique sélectionnés. Lorsque l'on expose la surface revêtue à de la lumière ultraviolette, on améliore de manière significative les propriétés antimicrobiennes des revêtements déposés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)