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1. (WO2007097350) DISPOSITIF ET PROCEDE DESTINES A LA MESURE D'UNE POSITION, SYSTEME ET PROCEDE DESTINES A L'ENTRAINEMENT D'UN CORPS MOBILE, DISPOSITIF ET PROCEDE DESTINES A LA FORMATON D'UN MOTIF, DISPOSITIF ET PROCEDE DESTINES A L'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/097350    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/053140
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 21.02.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
SENDAI NIKON CORPORATION [JP/JP]; 277, Aza Hara, Tako, Natori-shi, Miyagi 9811221 (JP) (Tous Sauf US).
MAKINOUCHI, Susumu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IMAI, Toru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WATANABE, Akihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MAKINOUCHI, Susumu; (JP).
IMAI, Toru; (JP).
WATANABE, Akihiro; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO. Karakida Center Bldg. 1-53-9, Karakida Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-044597 21.02.2006 JP
Titre (EN) POSITION MEASURING DEVICE AND POSITION MEASURING METHOD, MOBILE BODY DRIVING SYSTEM AND MOBILE BODY DRIVING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DESTINES A LA MESURE D'UNE POSITION, SYSTEME ET PROCEDE DESTINES A L'ENTRAINEMENT D'UN CORPS MOBILE, DISPOSITIF ET PROCEDE DESTINES A LA FORMATON D'UN MOTIF, DISPOSITIF ET PROCEDE DESTINES A L'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
(JA) 位置計測装置及び位置計測方法、移動体駆動システム及び移動体駆動方法、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A position measuring device includes linear encoders (50A to 50D) having four movable scales (44A to 44D) which are secured to a wafer stage (WST) and surround a wafer (W); and head units (46A to 46D) which are corresponding to the movable scales and emit a light having a wavelength in the longitudinal direction substantially longer than that in the direction perpendicular to the longitudinal direction. The information on the position of the wafer stage (WST) in an XY plane is calculated on the basis of the results of measured by the encoders. Thereby, the position of a mobile body can be accurately measured without increasing the size.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de mesure de position qui comprend : des codeurs linéaires (50A à 50D) présentant quatre échelles amovibles (44A à 44D) qui sont fixées à l'étage de la tranche (WST) et entourent celle-ci (W); et des unités têtes (46A à 46D) qui correspondent aux échelles amovibles et émettent une lumière dont la longueur d'onde dans la direction longitudinale est sensiblement plus longue que celle dans la direction perpendiculaire à la direction longitudinale. Les informations relatives à la position de l'étage de la tranche (WST) dans un plan XY sont calculées sur la base de résultats mesurés par les codeurs. On mesure ainsi avec précision la position d'un corps mobile sans augmenter la taille.
(JA) ウエハ(W)を取り囲んでウエハステージ(WST)に固定されている4つの移動スケール(44A~44D)と、各移動スケールに対応し、その長手方向の長さのほうが、それに直交する方向の長さよりも実質的に長い光をそれぞれ射出するヘッドユニット(46A~46D)とを有するリニアエンコーダ(50A~50D)を備える。そして、各エンコーダの計測結果に基づいて、ウエハステージ(WST)のXY面内の位置情報を算出する。これにより、大型化を招くことなく、移動体の位置を精度良く計測することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)