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1. (WO2007097231) PROCEDE DE PRODUCTION DE POLY(PHENYLENE ETHER) DE FAIBLE MASSE MOLECULAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/097231    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/052577
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 14.02.2007
CIB :
C08G 65/48 (2006.01), C08G 59/62 (2006.01), C08J 5/24 (2006.01)
Déposants : Asahi Kasei Chemicals Corporation [JP/JP]; 1-105 Kanda Jinbocho Chiyoda-ku, Tokyo 1018101 (JP) (Tous Sauf US).
ONIZUKA, Kenzo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKURAI, Minoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ONIZUKA, Kenzo; (JP).
SAKURAI, Minoru; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-043881 21.02.2006 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING LOW-MOLECULAR POLYPHENYLENE ETHER
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE POLY(PHENYLENE ETHER) DE FAIBLE MASSE MOLECULAIRE
(JA) 低分子量ポリフェニレンエーテルの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing by a redistribution reaction a low-molecular polyphenylene ether having a content of components with a molecular weight of 20,000 or higher of 10 mass% or lower and having a number-average molecular weight of 4,000 or lower, which comprises reacting a raw polyphenylene ether having a number-average molecular weight of 10,000 or higher with a polyphenol compound and a free-radical initiator. The process for low-molecular polyphenylene ether production is characterized in that the redistribution reaction step is a step conducted in a solvent, the proportion of the raw polyphenylene ether to the solvent is such that (rawpolyphenylene ether)/(solvent) (mass ratio) is from 0.4/100 to 40/100 (by mass), and the proportion of the free-radical initiator to the solvent is such that (free-radical initiator)/(solvent) (mass ratio) is from 0.5/100 to 5/100 (by mass).
(FR)La présente invention concerne un procédé de production par une réaction de redistribution d'un poly(phénylène éther) de faible masse moléculaire ayant une teneur en composants avec une masse moléculaire supérieure ou égale à 20 000 inférieure ou égale à 10 % en masse et ayant une masse moléculaire moyenne en nombre inférieure ou égale à 4 000, lequel procédé comprend la réaction d'un poly(phénylène éther) brut ayant une masse moléculaire moyenne en nombre inférieure ou égale à 10 000 avec un composé polyphénol et un initiateur de radicaux libres. Le procédé de production d'un poly(phénylène éther) de faible masse moléculaire est caractériséen ce que l'étape de réaction de redistribution est une étape réalisée dans un solvant, la proportion du poly(phénylène éther) en tant que produit de départ par rapport au solvant est telle que le rapport en masse (poly(phénylène éther) brut)/(solvant) vaut de 0,4/100 à 40/100 (en masse), et la proportion de l'initiateur de radicaux libres par rapport au solvant est telle que le rapport en masse (initiateur de radicaux libres)/(solvant) vaut de 0,5/100 à 5/100 (en masse).
(JA) 数平均分子量10,000以上の原料ポリフェニレンエーテルと、ポリフェノール性化合物と、ラジカル開始剤とを反応させる再分配反応により、分子量20,000以上の成分の割合が10質量%以下であり、且つ数平均分子量が4,000以下である低分子量ポリフェニレンエーテルを製造する方法であって、再分配反応工程は溶媒中で行われる工程であると共に、原料ポリフェニレンエーテルと前記溶媒との配合比は(原料ポリフェニレンエーテル):(溶媒)(質量比)として0.4:100~40:100(質量比)であり、ラジカル開始剤と溶媒との配合比は(ラジカル開始剤):(溶媒)(質量比)として0.5:100~5:100(質量比)であることを特徴とする低分子量ポリフェニレンエーテルの製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)